[发明专利]基板处理设备

权利要求书

1.一种用于处理基板的设备，前述设备包含：

外壳，前述外壳在内部具有处理空间且具有穿过前述外壳形成的排气孔；

支撑单元，前述支撑单元经组态以支撑前述基板于前述处理空间中；及

排气单元，前述排气单元设置于前述外壳的底部处且经组态以使前述处理空间排气，

其中前述排气单元包括：

本体，前述本体在内部具有缓冲空间且具有穿过前述本体形成的通孔，前述缓冲空间连接至前述处理空间；及

排气管道，前述排气管道经组态以排出前述缓冲空间中的气体，且

其中前述支撑单元包括：

支撑板，前述支撑板经组态以支撑前述基板于前述处理空间中；及

支撑轴，前述支撑轴与前述支撑板连接且插入至前述通孔及前述排气孔中，前述支撑轴相较于前述通孔具有较小直径。

2.如权利要求1所记载的设备，其中前述排气单元进一步包括穿孔板，前述穿孔板设置于前述缓冲空间中且具有穿过前述穿孔板形成的多个穿孔，且

其中前述穿孔板包围前述支撑轴且与前述支撑轴隔开。

3.如权利要求1所记载的设备，其中前述排气管道在自上方检视时连接至前述缓冲空间的边缘。

4.如权利要求3所记载的设备，其中前述本体包括：

插入部分，前述插入部分具有环形形状，前述通孔穿过前述环形形状形成；及

排出部分，前述排出部分在一方向上远离前述支撑轴自前述插入部分延伸，且

其中前述排气管道连接至前述排出部分。

5.如权利要求1所记载的设备，其中阻断板设置于前述本体的顶部处。

6.如权利要求1所记载的设备，其中前述本体与前述外壳组合以形成前述缓冲空间。

7.如权利要求1所记载的设备，其中前述支撑轴的中心及前述通孔的中心在自上方检视时彼此重合。

8.如权利要求1所记载的设备，其中前述支撑轴经设置以便可在上/下方向上移动；且

其中前述设备进一步包含伸缩囊，前述伸缩囊经组态以包围前述支撑轴且与前述本体耦接。

9.如权利要求1所记载的设备，进一步包含：

气体供应单元，前述气体供应单元定位于前述支撑单元上方且经组态以供应前述气体至前述处理空间中。

10.如权利要求1所记载的设备，进一步包含：

电源供应单元，前述电源供应单元定位于前述支撑单元上方且经组态以自前述气体产生等离子体。

11.如权利要求1所记载的设备，其中前述支撑板具有圆形板形状，且前述支撑板的侧面与前述外壳的内壁隔开。

12.如权利要求1所记载的设备，其中前述排气孔形成于前述外壳的前述底部的中心中。

13.如权利要求1所记载的设备，其中前述支撑板与电源连接且产生静电力，且

其中连接前述电源与前述支撑板的介接线路设置于前述支撑轴中。

14.如权利要求1所记载的设备，其中经组态以调整前述支撑板的温度的温度调整部件设置于前述支撑板中，且

其中连接前述温度调整部件与电源的介接线路设置于前述支撑轴中。

15.如权利要求1所记载的设备，其中下部电极设置于前述支撑板中，

其中前述下部电极与RF电源连接，前述RF电源经组态以供应RF功率至前述下部电极，且

其中连接前述下部电极与前述RF电源的电力线设置于支撑轴中。