[发明专利]一种新型5寸掩模版贴膜工具在审
申请号: | 201911347730.8 | 申请日: | 2019-12-24 |
公开(公告)号: | CN111025843A | 公开(公告)日: | 2020-04-17 |
发明(设计)人: | 薛文卿;华卫群;季书凤;杨长华;张月圆 | 申请(专利权)人: | 无锡中微掩模电子有限公司 |
主分类号: | G03F1/62 | 分类号: | G03F1/62;G03F7/20 |
代理公司: | 连云港联创专利代理事务所(特殊普通合伙) 32330 | 代理人: | 谷金颖 |
地址: | 214000 江*** | 国省代码: | 江苏;32 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 新型 模版 工具 | ||
1.一种新型5寸掩模版贴膜工具,其特征在于,包括中央镂空的主体支架(1)、定位兼导向块(2)和压力杆(3),所述定位兼导向块(2)分布于中央镂空的主体支架(1)的四周,所述压力杆(3)设置在主体支架(1)四角上,分别与5寸掩模版四个角位置对应。
2.如权利要求1所述的新型5寸掩模版贴膜工具,其特征在于,在左右两个定位兼导向块(2)上设置有把手(4)。
3.如权利要求1一种新型5寸掩模版贴膜工具,其特征在于,所述定位兼导向块的尺寸与掩模版贴膜基座尺寸相匹配。
4.如权利要求1一种新型5寸掩模版贴膜工具,其特征在于,所述定位兼导向块(2)的内层镀镍,外层镀塑料。
5.如权利要求1所述的一种新型5寸掩模版贴膜工具,压力杆(4)采用PMMA材质,和掩模基板表面重压和摩擦不产生颗粒和痕迹。
6.如权利要求1所述的一种新型5寸掩模版贴膜工具,压力杆(4)长度长于双面贴膜总厚度与贴膜基座内弹簧压缩长度之和。
7.如权利要求1所述的一种新型5寸掩模版贴膜工具,5寸掩模版贴膜工具的尺寸略大于5寸贴膜基座的尺寸。
8.如权利要求1所述的一种新型5寸掩模版贴膜工具,所述定位兼导向块的长度略长于贴膜基座内弹簧压缩长度。
9.一种新型5寸掩模版贴膜工具的贴膜方法,其特征在于,包括以下步骤:
S1、把贴膜工具放置工作台中央;
S2、对贴膜工具进行清洁和放置在顺手位置,准备后续操作;
S3、把掩模版保护膜平整地放置在贴膜支座上;
S4、把掩模版保护膜上的粘合带保护薄膜轻轻撕开;
S5、把需要粘贴保护膜的掩模版轻轻放置在保护膜架上;
S6、检查掩模版平整放置在保护膜架上;
S7、轻轻拿起新型5寸掩模版贴膜工具,使得定位兼导向块慢慢套在贴膜支座上;
S8、然后,双手同时用力慢慢按压,使掩模版和保护膜粘合在一起;
S9、把新型5寸掩模版贴膜工具放回原来位置,取出已经贴好保护膜的掩模版,立即放置在保护料盒中。
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G03F 图纹面的照相制版工艺,例如,印刷工艺、半导体器件的加工工艺;其所用材料;其所用原版;其所用专用设备
G03F1-00 用于图纹面的照相制版的原版,例如掩膜,光掩膜;其所用空白掩膜或其所用薄膜;其专门适用于此的容器;其制备
G03F1-20 .用于通过带电粒子束(CPB)辐照成像的掩膜或空白掩膜,例如通过电子束;其制备
G03F1-22 .用于通过100nm或更短波长辐照成像的掩膜或空白掩膜,例如 X射线掩膜、深紫外
G03F1-26 .相移掩膜[PSM];PSM空白;其制备
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G03F1-38 .具有辅助特征的掩膜,例如用于校准或测试的特殊涂层或标记;其制备