[发明专利]一种新型5寸掩模版贴膜工具

说明书

本发明公开了一种新型5寸掩模版贴膜工具，包括中央镂空的主体支架、定位兼导向块和压力杆，定位兼导向块分布于中央镂空的主体支架的四周，压力杆设置在主体支架四角上；所述压力杆分别与5寸掩模版四个角位置对应。主体支架的中央镂处可以观察贴膜工具的4个压力杆和5寸掩模版四个角位置是否对应。本发明设计科学合理，操作简单方便，本发明解决了人工使用四根手指来按压掩模基板，取而代之地使用四根压力杆可以在掩模基板四角压力均匀，且不会因手指按压留下痕迹。

技术领域

本发明涉及掩模制版技术领域，尤其涉及一种新型5寸掩模版贴膜工具。

背景技术

半导体集成电路制造工艺已经进入14-16纳米量产阶段，因此需要更先进的光刻技术刻出更细的线宽和更复杂的图案。光刻工艺中，需要用到一种模板来对图形进行转印和复制，这种模板称之为光掩模板(又称光罩，以下统称为掩模板)。掩模板是一条纽带连接设计公司和晶园制造，目前晶圆厂光刻工艺中还无法实现无掩模光刻，因此掩模板是集成电路制造中极为关键的一环。由此需求掩模板的线宽越来越细，精度要求也是越来越高，些许颗粒沾污就直接影响掩模版质量。

掩模基板的主要制作流程为曝光、PEB、显影、硬烘、刻蚀、去胶、检测、贴膜等，后端工序贴膜尤为重要，直接影响产品成品率。保护膜可以防止污染物掉落在掩模版上，降低掩模清洗周期，提高掩模使用寿命。

现有技术中，作业员平时用手直接按压掩模版表面，有时手指印残留在掩模版上无法消除，导致返工，需要拆下掩模版保护膜、清洗等不必要的返工工序。

发明内容

本发明要解决的技术问题是克服现有技术中作业员平时用手直接按压掩模版表面会残留手指印的缺陷，提供一种新型5寸掩模版贴膜工具。

为了解决上述技术问题，本发明提供了如下的技术方案：

本发明一种新型5寸掩模版贴膜工具，包括中央镂空的主体支架、定位兼导向块和压力杆，所述定位兼导向块分布于中央镂空的主体支架的四周，导向杆从上沿着贴膜基座慢慢向下，确保四根压力杆按压在掩模版四个角上，使得保护膜均匀而牢固地粘在掩模版上；所述压力杆设置在主体支架四角上；所述压力杆分别与5寸掩模版四个角位置对应。主体支架的中央镂处可以观察贴膜工具的4个压力杆和5寸掩模版四个角位置是否对应。

进一步的，在左右两个定位兼导向块上设置有把手。双手可以把压力均匀传递给4根压力杆，基本保持保护膜和需要贴膜的掩模版平衡。

进一步的，所述定位兼导向块的尺寸与掩模版贴膜基座尺寸相匹配。

进一步的，所述定位兼导向块内层镀镍，外层镀塑料，摩擦时不产生颗粒。

进一步的，压力杆采用PMMA材质，和掩模基板表面重压和摩擦不产生颗粒和痕迹。

进一步的，压力杆长度长于双面贴膜总厚度与贴膜基座内弹簧压缩长度之和，从而可以满足单面和双面贴膜需求。

进一步的，5寸掩模版贴膜工具的尺寸略大于5寸贴膜基座的尺寸。

进一步的，所述定位兼导向块的长度略长于贴膜基座内弹簧压缩长度。

采用上述新型5寸掩模版贴膜工具的贴膜方法，包括以下步骤：

S1、把贴膜工具放置工作台中央；

S2、对贴膜工具进行清洁和放置在顺手位置，准备后续操作；

S3、把掩模版保护膜平整地放置在贴膜支座上；

S4、把掩模版保护膜上的粘合带保护薄膜轻轻撕开；

S5、把需要粘贴保护膜的掩模版轻轻放置在保护膜架上；

S6、检查掩模版平整放置在保护膜架上；