[发明专利]一种提高反康谱仪康普顿抑制因子的布局结构有效

专利信息
申请号: 201911375082.7 申请日: 2019-12-27
公开(公告)号: CN111158040B 公开(公告)日: 2021-09-28
发明(设计)人: 李立华;李玮;刘蕴韬;徐鹍;莫玉俊 申请(专利权)人: 中国原子能科学研究院
主分类号: G01T1/36 分类号: G01T1/36
代理公司: 暂无信息 代理人: 暂无信息
地址: 102413 *** 国省代码: 北京;11
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 一种 提高 反康谱仪康普顿 抑制 因子 布局 结构
【权利要求书】:

1.一种提高反康谱仪康普顿抑制因子的布局结构,其特征在于:包括主晶体和外围晶体;所述外围晶体设置于所述主晶体周围;所述主晶体的光子入射方向的对侧也设置有外围晶体;

所述外围晶体为圆柱形,设置有主晶体入口和光子入射口,所述光子入射口沿光子入射方向的投影不在所述主晶体入口的覆盖范围内;

所述主晶体入口设置于所述外围晶体一端,所述外围晶体另一端封闭;所述光子入射口设置于所述外围晶体的侧面。

2.如权利要求1所述的提高反康谱仪康普顿抑制因子的布局结构,其特征在于:所述光子入射口设置于外围晶体侧面上所述主晶体中部所对应的位置。

3.如权利要求1所述的提高反康谱仪康普顿抑制因子的布局结构,其特征在于:所述主晶体为高纯锗,所述外围晶体为锗酸铋或碘化钠。

4.如权利要求3所述的提高反康谱仪康普顿抑制因子的布局结构,其特征在于:所述外围晶体为锗酸铋,所述外围晶体的直径为127mm,高为127mm。

5.如权利要求1-4任一所述的提高反康谱仪康普顿抑制因子的布局结构,其特征在于:所述外围晶体外侧还设置有铅屏蔽层。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于中国原子能科学研究院,未经中国原子能科学研究院许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201911375082.7/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top