[发明专利]一种高密度金属靶材制备工艺在审
申请号: | 201911377170.0 | 申请日: | 2019-12-27 |
公开(公告)号: | CN111004993A | 公开(公告)日: | 2020-04-14 |
发明(设计)人: | 蔺裕平;韩刚库 | 申请(专利权)人: | 梭莱镀膜工业(江阴)有限公司 |
主分类号: | C23C4/134 | 分类号: | C23C4/134;C23C4/06 |
代理公司: | 北京权智天下知识产权代理事务所(普通合伙) 11638 | 代理人: | 王凯 |
地址: | 214437 江苏省*** | 国省代码: | 江苏;32 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 高密度 金属 制备 工艺 | ||
1.一种高密度金属靶材制备工艺,其特征在于:所述工艺为:将靶材(1)放置于靶材驱动总成上后,先对喷涂密封舱(101)抽真空使得舱内形成压力为2Pa的密闭真空环境;随后,靶材驱动总成启动,驱动靶材旋转的同时进行左右平移,与此同时,等离子喷枪系统(201)的喷枪开始喷涂对靶材(1)进行喷涂;且在喷涂过程中,红外温度传感器(106)对靶材(1)的表面温度实时监测,当温度偏离设定点时,等离子喷枪系统(201)的功率以及其供丝速度随之调整,从而让靶材(1)的表面始终保持微熔状态。
2.如权利要求1所述一种高密度金属靶材制备工艺,其特征在于:在喷涂时粉尘传感器(105)将粉尘浓度传递至处理器,处理器控制除尘净化器(104)的伺服电机保证与之匹配的除尘频率;同时通过真空压力传感器(107)和红外温度传感器(106)来调整抽真空机组(103)的输出功率,确保喷涂过程处于动态平衡。
3.如权利要求1所述一种高密度金属靶材制备工艺,其特征在于:所述工艺基于一种低真空氛围靶材制备系统,所述系统包含有喷涂密封舱(101),所述喷涂密封舱(101)的舱室经过滤器(102)连通至抽真空机组(103),等离子喷枪系统(201)的喷枪插装于喷涂密封舱(101)内,所述喷涂密封舱(101)内安装有靶材驱动总成;
靶材驱动总成包含有位于喷涂密封舱(101)底面上的滑轨(302),有一滑板(301)滑动行走于滑轨(302)上,滑板(301)内沿其长度方向设置有一螺孔,有一与滑轨(302)平行的丝杆(303)旋置于螺孔内,且安装于喷涂密封舱(101)底面上的滑移电机(304)驱动丝杆(303)旋转,从而实现推动滑板(303)水平移动;
所述滑板(301)的右端竖向固定设置有右端板(401),左端板(402)竖向固定设置于移动板(403)上,所述移动板(403)滑动设置于移动滑轨(404)上,移动滑轨(404)位于滑板(301)上,靶材(1)的两端通过端头夹持件(2)分别架设于右端板(401)和左端板(402)上,安装于滑板(301)上的旋转电机(405)经端头夹持件(2)驱动靶材(1)旋转。
4.如权利要求3所述一种高密度金属靶材制备工艺,其特征在于:所述喷涂密封舱(101)的舱室的一端经管路连通至除尘净化器(104)的进气端,除尘净化器(104)的出气端经管路连通至喷涂密封舱(101)的舱室的另一端。
5.如权利要求3所述一种高密度金属靶材制备工艺,其特征在于:所述喷涂密封舱(101)内壁上安装有粉尘传感器(105)、红外温度传感器(106)和真空压力传感器(107)。
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C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C4-00 熔融态覆层材料喷镀法,例如火焰喷镀法、等离子喷镀法或放电喷镀法的镀覆
C23C4-02 .待镀材料的预处理,例如为了在选定的表面区域镀覆
C23C4-04 .以镀覆材料为特征的
C23C4-12 .以喷镀方法为特征的
C23C4-18 .后处理
C23C4-14 ..用于长形材料的镀覆