[发明专利]发声器件有效

专利信息
申请号: 201911379781.9 申请日: 2019-12-27
公开(公告)号: CN111405425B 公开(公告)日: 2021-03-26
发明(设计)人: 宋威;张帆;金鑫 申请(专利权)人: 瑞声科技(新加坡)有限公司
主分类号: H04R9/02 分类号: H04R9/02;H04R9/06;H04R7/12
代理公司: 广东广和律师事务所 44298 代理人: 陈巍巍
地址: 新加坡卡文迪*** 国省代码: 暂无信息
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 发声 器件
【权利要求书】:

1.一种发声器件,其包括盆架、分别支撑于所述盆架的振动系统和驱动所述振动系统振动发声的磁路系统,所述磁路系统具有磁间隙,其特征在于,所述振动系统包括:

上振膜,所述上振膜呈环状并环绕所述磁路系统设置,所述上振膜固定于所述盆架,所述上振膜与所述盆架共同围成收容空间,所述上振膜远离所述收容空间的一侧与外界连通并充当所述上振膜发声的上前腔;

下振膜,所述下振膜呈环状且环绕所述磁路系统间隔设置,所述下振膜与所述上振膜间隔相对并位于所述收容空间内,所述下振膜的外周侧固定于所述盆架;

音圈,所述音圈插设于所述磁间隙内用以驱动所述上振膜和所述下振膜振动发声;

上骨架,所述上骨架位于所述收容空间内,所述上骨架呈环状并环绕所述磁路系统间隔设置,所述上骨架分别与所述上振膜和所述音圈连接;

下骨架,所述下骨架位于所述收容空间内,所述下骨架呈环状并环绕所述磁路系统间隔设置,所述下骨架分别与所述下振膜和所述音圈连接,所述音圈同时驱动所述上骨架和所述下骨架以带动所述上振膜和所述下振膜同时振动;以及,

隔离振膜,所述隔离振膜呈环状并环绕所述磁路系统间隔设置,所述隔离振膜位于所述收容空间内且所述隔离振膜间隔设置于所述上振膜和所述下振膜之间,所述隔离振膜的外周侧与所述盆架连接,所述隔离振膜的内周侧与所述下骨架连接;

所述下振膜、所述下骨架、所述隔离振膜以及所述盆架共同将所述收容空间分隔成用于所述下振膜发声的下前腔以及用于所述上振膜和所述下振膜共用的后腔;所述盆架设有贯穿其上的发声孔,所述发声孔将所述下前腔与外界连通。

2.根据权利要求1所述的发声器件,其特征在于,所述上骨架包括间隔设置于所述磁路系统外周侧的上骨架本体、由所述上骨架本体向所述磁路系统弯折延伸至所述磁间隙内的上骨架延伸壁以及由所述上骨架延伸壁弯折延伸的呈弧形的上骨架连接壁;所述上骨架本体连接于所述上振膜;所述音圈呈带圆角的矩形结构,所述上骨架连接壁贴合于所述音圈外周侧的圆角处。

3.根据权利要求2所述的发声器件,其特征在于,所述上骨架本体包括两个且分别间隔设于所述音圈的相对两侧,每一所述上骨架本体的相对两端分别弯折形成两个所述上骨架延伸壁,每一所述上骨架延伸壁均弯折延伸形成一所述上骨架连接壁,四个所述上骨架连接壁分别设于所述音圈的四个圆角处。

4.根据权利要求2所述的发声器件,其特征在于,所述上骨架本体包括上骨架本体壁和由所述上骨架本体壁靠近所述上振膜的一端沿垂直于所述上振膜的振动方向弯折延伸的上加强壁;所述上骨架延伸壁由所述上骨架本体壁弯折延伸,所述上加强壁与所述上振膜连接。

5.根据权利要求1所述的发声器件,其特征在于,所述下骨架包括间隔环绕所述磁路系统设置的呈环状的下骨架本体、由所述下骨架本体向所述磁路系统弯折延伸至所述磁间隙内的下骨架支架以及由所述下骨架支架弯折延伸的呈弧形的下骨架连接壁;所述下骨架本体靠近所述上振膜的一端与所述隔离振膜远离所述上振膜的一侧连接,所述下骨架本体远离所述上振膜的一端与所述下振膜靠近所述上振膜的一侧连接,所述下骨架连接壁贴合于所述音圈外周侧的圆角处且与所述上骨架连接壁间隔设置。

6.根据权利要求5所述的发声器件,其特征在于,所述下骨架支架包括四个,所述下骨架连接壁包括四个,每一所述下骨架支架均弯折延伸形成一所述下骨架连接壁,四个所述下骨架连接壁分别设于所述音圈的四个圆角处。

7.根据权利要求5所述的发声器件,其特征在于,所述下骨架本体包括下骨架本体壁、由所述下骨架本体壁靠近所述隔离振膜的一端沿垂直于所述上振膜的振动方向弯折延伸的第一下加强壁、以及由所述下骨架本体壁靠近所述下振膜的一端沿垂直于所述振动方向弯折延伸的第二下加强壁,所述第一下加强壁与所述第二下加强壁分别位于所述下骨架本体壁的相异两侧;所述第一下加强壁与所述隔离振膜连接;所述第二下加强壁与所述下振膜连接;所述下骨架支架由所述下骨架本体壁弯折延伸。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于瑞声科技(新加坡)有限公司,未经瑞声科技(新加坡)有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201911379781.9/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top