[发明专利]光学邻近修正方法及系统、掩模版、设备与介质在审

专利信息
申请号: 201911380358.0 申请日: 2019-12-27
公开(公告)号: CN113050365A 公开(公告)日: 2021-06-29
发明(设计)人: 陈巧丽;朱继承;陈权 申请(专利权)人: 中芯国际集成电路制造(上海)有限公司;中芯国际集成电路制造(北京)有限公司
主分类号: G03F1/36 分类号: G03F1/36
代理公司: 上海知锦知识产权代理事务所(特殊普通合伙) 31327 代理人: 高静
地址: 201203 上海市浦东新*** 国省代码: 上海;31
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摘要:
搜索关键词: 光学 邻近 修正 方法 系统 模版 设备 介质
【权利要求书】:

1.一种光学邻近修正方法,用于在修正方向上添加预补偿修正间隙,特征在于,包括:

提供原始版图图形,所述原始版图图形包括相邻的第一图形和第二图形,所述第一图形的第一端部和第二图形的第二端部相接近;

提取所述第一端部的第一中心点,以及第二端部的第二中心点,并以第一中心点和第二中心点的连线为斜边,建立直角三角形,所述直角三角形还包括第一直角边和第二直角边,所述第一直角边平行于所述修正方向,所述第二直角边垂直于所述修正方向;

提取所述直角三角形中所述斜边的最小长度与第二直角边的最小长度,计算得到所述第一直角边的最小长度;

根据所述第一直角边的最小长度,得到所述预补偿修正间隙的最小宽度;

根据所述预补偿修正间隙的最小宽度,在所述原始版图图形上添加预补偿修正间隙,得到修正后版图。

2.如权利要求1所述的光学邻近修正方法,其特征在于,所述第一图形和第二图形为角对角图形,所述第一图形和第二图形在角对角处均为条状矩形图形,所述第一图形和第二图形在角对角处相平行。

3.如权利要求2所述的光学邻近修正方法,其特征在于,在建立直角三角形的步骤中,所述第一直角边平行于所述角对角处的第一图形和第二图形。

4.如权利要求1所述的光学邻近修正方法,其特征在于,所述第一端部在转移到晶圆之后形成第一半圆状图形,第二端部在转移到晶圆之后形成第二半圆状图形,在提取所述斜边与第二直角边的最小长度的步骤中,所述斜边的最小长度由所述第一半圆状图形和第二半圆状图形的边缘圆弧半径,以及第一半圆状图形和第二半圆状图形之间的最小图形间距相加得到。

5.如权利要求4所述的光学邻近修正方法,其特征在于,所述第一图形的线宽为WA,第二图形的线宽为WB,所述第一半圆状图形的边缘圆弧半径基于0.5*n2*WA获得,所述第二半圆状图形的边缘圆弧半径基于0.5*n2*WB获得,其中n2为显影后斜弧变形参数,n2的取值范围在0.7到1.3的范围内。

6.如权利要求5所述的光学邻近修正方法,其特征在于,所述第一半圆状图形和第二半圆状图形之间的最小图形间距DAB,基于瑞利判据和曝光工艺窗口获得。

7.如权利要求6所述的光学邻近修正方法,其特征在于,所述图形交叠间距DAB的的计算公式为DAB=k1*λ/NA+kcdu+kovl,其中k1为瑞利判据因数,λ为光波长,NA为透镜角孔径数值,kcdu为特征尺寸均一性参数,kovl为套刻精度性能参数。

8.如权利要求7所述的光学邻近修正方法,其特征在于,得到所述特征尺寸均一性参数的方法包括:监控稳定性系数,计算得到所述特征尺寸均一性参数。

9.如权利要求7所述的光学邻近修正方法,其特征在于,得到所套刻精度性能参数的方法包括:监控稳定性系数,计算得到所述套刻精度性能参数。

10.如权利要求6所述的光学邻近修正方法,其特征在于,在提取所述斜边与第二直角边的最小长度的步骤中,所述第二直角边的最小长度由所述第一半圆状图形和第二半圆状图形的边缘圆弧半径,以及第一半圆状图形和第二半圆状图形之间的图形间距相加得到。

11.如权利要求10所述的光学邻近修正方法,其特征在于,在提取所述斜边与第二直角边的最小长度的步骤中,所述第二直角边的最小长度为所述第一图形和第二图形的中心线间距YAB

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