[发明专利]光学邻近效应修正方法和系统、掩膜版及其制备方法

权利要求书

1.一种光学邻近效应修正方法，其特征在于，包括：

获取待修正主图形和所述待修正主图形的重叠图形及重叠边，在所述待修正主图形中，所述待修正主图形和其他的主图形按照光刻位置重叠的部分为重叠图形，所述重叠图形在所述待修正主图形的外边缘上的边为重叠边；

在待修正的所述重叠边的相邻位置设置散射条辅助图形，所述散射条辅助图形的设置方向与所述待修正主图形的设置方向平行，所述散射条辅助图形的长度小于最小曝光长度。

2.如权利要求1所述的光学邻近效应修正方法，其特征在于，每个所述散射条辅助图形对应于一个待修正的所述重叠边。

3.如权利要求2所述的光学邻近效应修正方法，其特征在于，所述散射条辅助图形在其所对应的所述重叠边所在直线上的投影覆盖其所对应的所述重叠边。

4.如权利要求2或3所述的光学邻近效应修正方法，其特征在于，所述散射条辅助图形关于其所对应的所述重叠边的垂直对称轴对称。

5.如权利要求1所述的光学邻近效应修正方法，其特征在于，每个所述散射条辅助图形对应于两个待修正的所述重叠边，所述散射条辅助图形在其所对应的任一所述重叠边所在直线上的投影覆盖其所对应的所述重叠边。

6.如权利要求5所述的光学邻近效应修正方法，其特征在于，所述散射条辅助图形关于其所对应的两个所述重叠边所组成的组合图形的垂直对称轴对称。

7.一种光学邻近效应修正系统，其特征在于，包括：

图形获取单元，所述图形获取单元适于获取待修正主图形和所述待修正主图形的重叠图形及重叠边；所述重叠图形为在所述待修正主图形中，所述待修正主图形和其他的主图形按照光刻位置重叠的部分；所述重叠边为所述重叠图形在所述待修正主图形的外边缘上的边；

散射条辅助图形设置单元，所述散射条辅助图形设置单元适于在待修正的所述重叠边的相邻位置设置散射条辅助图形，所述散射条辅助图形的设置方向与所述待修正主图形的设置方向平行，所述散射条辅助图形的长度小于最小曝光长度。

8.如权利要求7所述的光学邻近效应修正系统，其特征在于，每个所述散射条辅助图形对应于一个待修正的所述重叠边。

9.如权利要求8所述的光学邻近效应修正系统，其特征在于，所述散射条辅助图形在其所对应的所述重叠边所在直线上的投影覆盖其所对应的所述重叠边。

10.如权利要求8或9所述的光学邻近效应修正系统，其特征在于，所述散射条辅助图形关于其所对应的所述重叠边的垂直对称轴对称。

11.如权利要求7所述的光学邻近效应修正系统，其特征在于，每个所述散射条辅助图形对应于两个待修正的所述重叠边，所述散射条辅助图形在其所对应的任一所述重叠边所在直线上的投影覆盖其所对应的所述重叠边。

12.如权利要求11所述的光学邻近效应修正系统，其特征在于，所述散射条辅助图形关于其所对应的两个所述重叠边所组成的组合图形的垂直对称轴对称。

13.一种掩膜版的制备方法，其特征在于，包括：

权利要求1-6任一项所述的光学邻近效应修正方法；

将所述待修正主图形和所述散射条辅助图形转移至掩模版。

14.一种掩膜版，其特征在于，所述掩膜版设置有待修正主图形和散射条辅助图形；

在所述待修正主图形中，所述待修正主图形和其他的主图形按照光刻位置重叠的部分为重叠图形，所述重叠图形在所述待修正主图形的外边缘上的边为重叠边；

所述散射条辅助图形设置于待修正的所述重叠边的相邻位置，所述散射条辅助图形的设置方向与所述待修正主图形的设置方向平行，所述散射条辅助图形的长度小于最小曝光长度。