[发明专利]一种氧化锆覆膜支架的制备方法在审
申请号: | 201911387117.9 | 申请日: | 2019-12-30 |
公开(公告)号: | CN113122829A | 公开(公告)日: | 2021-07-16 |
发明(设计)人: | 吕楠 | 申请(专利权)人: | 吕楠 |
主分类号: | C23C18/12 | 分类号: | C23C18/12;A61L31/02;A61L31/08;A61L31/14 |
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地址: | 710000 陕西省西安*** | 国省代码: | 陕西;61 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 氧化锆 支架 制备 方法 | ||
1.一种氧化锆覆膜支架的制备方法,其特征在于,采用溶胶-凝胶法在316L不锈钢基底上制备氧化锆薄膜,具体步骤如下:
(1):将316L不锈钢板切割成规格为15×15×1.2mm的基片,将基片依次进行打磨抛光和机械抛光,再将抛光后的基片超声波清洗,烘干;
(2):在烘干的316L不锈钢基底上涂覆氧化锆溶胶,干燥;
(3):干燥后进行烧结;
(4):循环重复(2)和(3)步骤5-10次,退火,得到氧化锆覆膜支架。
2.根据权利要求1所述氧化锆覆膜支架的制备方法,其特征在于,氧化锆溶胶的制备方法为:将ZrOCl2溶液、尿素和晶型稳定剂混合,得到混合溶液;将混合溶液置于80-85℃的水域中,向其加入聚乙烯醇水溶液,水域加热搅拌5-7h,得到稳定透明的初期氧化锆溶液,陈化1天后得到氧化锆溶胶。
3.根据权利要求1所述氧化锆覆膜支架的制备方法,其特征在于,所述步骤(1)中打磨抛光是采用碳化硅水磨砂纸进行打磨抛光;机械抛光是采用0.5um的金刚石抛光液进行抛光。
4.根据权利要求1所述氧化锆覆膜支架的制备方法,其特征在于,所述步骤(1)中基片超声波清洗是依次采用丙酮、无水乙醇、去离子水对基片超声波清洗。
5.根据权利要求1所述氧化锆覆膜支架的制备方法,其特征在于,所述步骤(2)中干燥的方式采用的是分级干燥,即80℃干燥10min;60℃干燥30min;30℃干燥50min。
6.根据权利要求1所述氧化锆覆膜支架的制备方法,其特征在于:所述烧结的温度为270-300℃,烧结时间是20-35min。
7.根据权利要求1所述氧化锆覆膜支架的制备方法,其特征在于:所述步骤(4)中退火时间为1h,退火温度为400-600℃。
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