[发明专利]一种适用于高纯电子级气体生产系统的除水方法及系统

权利要求书

1.一种适用于高纯电子级气体生产系统的除水方法，其特征在于：所述方法步骤如下：

(1)采用压力为1MPa～5MPa的高纯氮气，对所述生产系统(7)进行吹扫，直至所述生产系统(7)内壁干燥无水渍；

(2)对干燥的所述生产系统(7)加热至100℃～120℃，同时向所述生产系统(7)内充入高纯氮气，使得所述生产系统(7)压力达到-0.05MPa～0MPa；

(3)抽真空排出所述生产系统(7)中的高纯氮气，气体排出流量为50L/min～80L/min；同时向所述生产系统(7)内充入高纯氮气，所述生产系统(7)的压力为-0.05～0MPa，保持8h～24h；

(4)抽真空排出所述生产系统(7)中的高纯氮气，至所述生产系统(7)绝对压力为10Pa以下，向所述生产系统(7)内充入纯度为99.999％以上的COF₂气体至所述生产系统(7)压力为0.1MPa～0.4MPa；将所述生产系统(7)加热至50℃～80℃，保持8h～24h；

(5)采用高纯氮气对所述生产系统(7)进行真空置换处理，排出所述生产系统(7)中产生的HF、CO₂和未反应的COF₂，完成对高纯电子级气体生产系统(7)的除水；

其中：步骤(1)～(4)中所述高纯氮气纯度为99.999％以上，水份含量在1×10^-6ppm以下；

步骤(5)中所述高纯氮气纯度为99.999％以上，水份含量在0.01×10^-6ppm以下。

2.根据权利要求1所述的一种适用于高纯电子级气体生产系统的除水方法，其特征在于：步骤(5)中所述采用的真空置换的步骤具体如下：

①在50℃～80℃下对所述生产系统(7)进行抽真空，至所述生产系统(7)绝对压力为10Pa以下；

②向所述生产系统(7)内充入高纯氮气至所述生产系统(7)压力为-0.04MPa～0MPa，保持5min～10min；

③对所述生产系统(7)抽真空至所述生产系统(7)绝对压力为10Pa以下；

④重复步骤②～③5次。

3.一种适用于高纯电子级气体生产系统的除水系统，其特征在于：所述系统适用于如权利要求1或2所述的一种适用于高纯电子级气体生产系统的除水方法；所述系统包括COF₂存储装置(1)、高纯氮气存储装置(2)、减压器(3)、流量计(6)、真空缓冲罐(8)和真空泵(9)；

真空缓冲罐(8)和真空泵(9)构成真空系统；真空缓冲罐(8)设有压力表(4)；

所述生产系统(7)设置电加热温控系统和压力表(4)；

待除水的所述生产系统(7)一端设置为进气端、在另一端为出气端；高纯氮气和COF₂存储装置(1)并联后通过管路与进气端相连，与进气端相连的管路上安装有减压器(3)，减压器(3)后方的管路上安装有压力表(4)，压力表(4)后方的管路上安装有调解阀；所述生产系统(7)出气端分成两条管路，一条管路安装调节阀(5)通大气，另外一条管路与真空缓冲罐(8)连接，在与真空缓冲罐(8)连接的管路上，安装有调节阀(5)和流量计(6)，真空缓冲罐(8)与真空泵(9)通过管路连接，真空缓冲罐(8)与真空泵(9)连接的管路上设有调节阀(5)。