[发明专利]一种制备超薄UiO-66金属有机框架分离膜的方法及应用有效

专利信息
申请号: 201911396187.0 申请日: 2019-12-30
公开(公告)号: CN111001313B 公开(公告)日: 2021-06-18
发明(设计)人: 董应超;王雪玲;杨文涛;郑奇峰;李佳敏;李泽昌;杨凤林 申请(专利权)人: 大连理工大学
主分类号: B01D71/06 分类号: B01D71/06;B01D71/02;B01D67/00;B01D61/02;C02F1/44;B01D61/36;C01D15/00;C07C7/144;C07C15/08
代理公司: 大连理工大学专利中心 21200 代理人: 温福雪;侯明远
地址: 116024 辽*** 国省代码: 辽宁;21
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摘要:
搜索关键词: 一种 制备 超薄 uio 66 金属 有机 框架 分离 方法 应用
【权利要求书】:

1.一种制备超薄UiO-66金属有机框架分离膜的方法,其特征在于,步骤如下:

1)在陶瓷中空纤维基底上制备无机过渡层:首先配制浓度为0.05%~0.2wt%的无机氧化物溶胶,利用浸渍提拉工艺在陶瓷中空纤维基底外表面均匀涂覆无机氧化物溶胶;在上述过程中,控制浸渍时间为0.5~10s,控制提拉速度为0.2~2cm/s,获得浸渍成功的载体,之后将载体放置于恒温湿度干燥箱内干燥24h以上,并于烧结气氛为空气的高温炉中在350~900℃的温度下焙烧1~2h,在陶瓷中空纤维基底上制备得到厚度为1.0~5.0μm的无机过渡层;所述的过渡层无机氧化物为γ-Al2O3、氧化硅或氧化钛;

2)在涂覆无机过渡层的基底上制备超薄UiO-66膜:将步骤1)中用无机过渡层修饰的陶瓷中空纤维基底垂直置于聚四氟乙烯反应釜中,按照ZrCl4:H2BDC:H2O:DMF=1:1~5:0~5:500~1000的摩尔比配制UiO-66合成母液,于130-220℃温度条件下原位晶化10h–30h,制备得到连续无缺陷的超薄金属有机框架UiO-66薄膜。

2.采用权利要求1的方法得到的超薄金属有机框架UiO-66薄膜用于回收卤水中锂。

3.采用权利要求1的方法得到的超薄金属有机框架UiO-66薄膜用于水体中新兴污染物的去除。

4.根据权利要求3所述的采用权利要求1的方法得到的超薄金属有机框架UiO-66薄膜用于水体中新兴污染物的去除,其特征在于,所述的新兴污染物为双氯芬酸钠或布洛芬。

5.采用权利要求1的方法得到的超薄金属有机框架UiO-66薄膜用于高效脱盐,在渗透蒸发过程中进行。

6.采用权利要求1的方法得到的超薄金属有机框架UiO-66薄膜用于二甲苯同分异构体分离,在渗透蒸发过程中进行。

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