[发明专利]半导体存储装置在审

专利信息
申请号: 201911397735.1 申请日: 2019-12-30
公开(公告)号: CN112086463A 公开(公告)日: 2020-12-15
发明(设计)人: 前嶋洋;橋本寿文;前田高志;齋藤真澄;内海哲章 申请(专利权)人: 铠侠股份有限公司
主分类号: H01L27/1157 分类号: H01L27/1157;H01L27/11573;H01L27/11582;H01L27/11524;H01L27/11529;H01L27/11556;G11C16/04;G11C16/08
代理公司: 北京律盟知识产权代理有限责任公司 11287 代理人: 杨林勳
地址: 日本*** 国省代码: 暂无信息
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摘要:
搜索关键词: 半导体 存储 装置
【权利要求书】:

1.一种半导体存储装置,具备存储器芯片,

所述存储器芯片包含:

第1区域,包含多个存储胞;

第2区域,与所述第1区域不同;

多条第1字线,在所述第1区域及所述第2区域中,在第1方向上相互分离地积层;

第1柱,在所述第1区域包含贯通所述多条第1字线设置的第1半导体层及设置在所述第1半导体层与所述多条第1字线之间的第1绝缘体层,且所述多条第1字线与所述第1半导体层的交叉部分分别作为存储胞发挥功能;

第1接合金属,设置在所述第2区域;及

第1晶体管,在所述第2区域,设置在所述多条第1字线与所述第1接合金属之间的第1层,且连接在1条第1字线与所述第1接合金属之间。

2.根据权利要求1所述的半导体存储装置,其中

所述存储器芯片还包含:

多条第2字线,在所述第1区域及所述第2区域,与所述多条第1字线分离地设置,且在所述第1方向上相互分离地积层;

第2柱,在所述第1区域包含贯通所述多条第2字线设置的第2半导体层及设置在所述第2半导体层与所述多条第2字线之间的第2绝缘体层,且所述多条第2字线与所述第2半导体层的交叉部分分别作为存储胞发挥功能;及

第2晶体管,在所述第2区域设置在所述第1层,连接在1条第2字线与所述第1接合金属之间,且栅极电极与所述第1晶体管分离。

3.根据权利要求2所述的半导体存储装置,其中

所述存储器芯片还包含在所述第2区域电连接于所述第1晶体管的栅极的第2接合金属及电连接于所述第2晶体管的栅极的第3接合金属。

4.一种半导体存储装置,具备存储器芯片,

所述存储器芯片包含:

多条第1字线,在第1方向上相互分离地积层;

第1柱,包含贯通所述多条第1字线设置的第1半导体层及设置在所述第1半导体层与所述多条第1字线之间的第1绝缘体层,且所述多条第1字线与所述第1半导体层的交叉部分分别作为存储胞发挥功能;

第1位线,与所述第1半导体层电连接;

第1晶体管,与所述第1位线电连接;及

第1接合金属,经由所述第1晶体管与所述第1位线电连接。

5.根据权利要求4所述的半导体存储装置,其中

所述存储器芯片还包含:

第2柱,包含贯通所述多条第1字线设置的第2半导体层及设置在所述第2半导体层与所述多条第1字线之间的第2绝缘体层,且所述多条第2字线与所述第2半导体层的交叉部分分别作为存储胞发挥功能;

第2位线,与所述第2半导体层电连接;

第2晶体管,与所述第2位线电连接,且栅极与所述第1晶体管的栅极电连接;及

第2接合金属,经由所述第2晶体管与所述第2位线电连接。

6.根据权利要求5所述的半导体存储装置,其中

所述存储器芯片还包含第3接合金属,所述第3接合金属电连接于所述第1晶体管的所述栅极及所述第2晶体管的所述栅极。

7.一种半导体存储装置,具备存储器芯片,

所述存储器芯片包含:

多条第1字线,在第1方向上相互分离地积层;

第1柱,包含贯通所述多条第1字线设置的第1半导体层及设置在所述第1半导体层与所述多条第1字线之间的第1绝缘体层,且所述多条第1字线与所述第1半导体层的交叉部分分别作为存储胞发挥功能;

第1位线,与所述第1半导体层电连接;

第1晶体管,与所述第1位线电连接;

第1接合金属,经由所述第1晶体管与所述第1位线电连接;及

泵电路,能够经由所述第1晶体管对所述位线施加高电压。

8.根据权利要求7所述的半导体存储装置,其中

所述存储器芯片还包含:

多个第2晶体管,分别连接在所述多条第1字线;

信号线,经由所述多个第2晶体管与所述多条第1字线连接;

第3晶体管,连接在所述信号线;及

第4晶体管,连接在所述第1晶体管与所述第3晶体管之间。

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