[发明专利]量子点墨水、量子点薄膜的制备方法在审
申请号: | 201911402959.7 | 申请日: | 2019-12-30 |
公开(公告)号: | CN113122053A | 公开(公告)日: | 2021-07-16 |
发明(设计)人: | 李雪 | 申请(专利权)人: | TCL集团股份有限公司 |
主分类号: | C09D11/30 | 分类号: | C09D11/30;C09D11/36;H01L51/50 |
代理公司: | 深圳中一联合知识产权代理有限公司 44414 | 代理人: | 曹柳 |
地址: | 516006 广东省*** | 国省代码: | 广东;44 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 量子 墨水 薄膜 制备 方法 | ||
1.一种量子点墨水,其特征在于,所述量子点墨水包括至少一种量子点材料和至少一种吡啶醇类有机溶剂,所述吡啶醇类有机溶剂的结构通式如下式I所示:
其中,a,b分别独立地为0~2的整数,且a,b不同时为0;
R1,R2分别独立地选自:取代或未被取代的烷基、取代或未被取代的环烷基中的至少一种。
2.如权利要求1所述的量子点墨水,其特征在于,所述取代或未被取代的烷基为取代或未被取代的碳原子数为2~25的烷基;
所述取代或未被取代的环烷基为取代或未被取代的碳原子数为3~25的环烷基;
其中,所述取代的烷基中的取代基、所述取代的环烷基中的取代基分别独立地选自:芳基、硝基、氰基、氨基、卤素、羟基、羧基、酯基、羰基、烯基、炔基、环烷基、烷氧基、芳氧基、杂芳氧基、烷氧羰基、全氟烷基、全氟烷氧基、芳氧基、硫代烷氧基、-N(R3)(R4)、-S(O)2-N(R3)(R4)、-C(=O)-N(R3)(R4)、(R3)(R4)正烷基、(R3)(R4)正烷氧基、(R3)(R4)正烷基芳氧基烷基、-S(O)x-芳基、-S(O)x-杂芳基、甲硅烷基基团中的至少一种;其中,x为0~2的整数;R3、R4分别独立地选自:烷基、环烷基、芳基中的一种。
3.如权利要求2所述的量子点墨水,其特征在于,所述碳原子数为2~25的烷基选自:丁基、戊基、己基、庚基、辛基、壬基、癸基、十一烷基、十二烷基、十六烷基、十八烷基及其同分异构体中的至少一种;和/或,
所述碳原子数为3~25的环烷基选自:环丁基、环戊基、环己基、环庚基、环辛基、环壬基、环癸基、环十一烷基及其同分异构体中的至少一种;和/或,
所述R3、R4分别独立地选自烷基时,所述烷基选自碳原子数为1~25的烷基;和/或,
所述芳基选自:苯基、联苯基、三苯基、苯并基、萘基、蒽基、迫苯并萘基、菲基、芴基、芘基、屈基、苝基、薁基中的至少一种;和/或,
所述杂芳基选自:二苯并噻吩基、二苯并呋喃基、呋喃基、噻吩基、苯并呋喃基、苯并噻吩基、咔唑基、吡唑基、咪唑基、三氮唑基、异恶唑基、噻唑基、噁二唑基、噁三唑基、二恶唑基、噻二唑基、吡啶基、哒嗪基、嘧啶基、吡嗪基、三嗪基、恶嗪基、噻嗪基、恶二嗪基、吲哚基、苯并咪唑基、吲唑基、吲哚嗪基、苯并恶唑基、异恶唑基、苯并噻唑基、喹啉基、异喹啉基、邻二氮(杂)萘基、喹唑啉基、喹喔啉基、萘基、酞基,蝶啶基、氧杂蒽基、吖啶基、吩嗪基、吩噻嗪基、吩恶嗪基、二苯并硒吩基、苯并硒吩基、苯并呋喃并吡啶吡唑基、吲哚咔唑基、吡啶基吲哚基、吡咯二吡啶并吲哚基、呋喃二吡啶基、苯并噻吩呋喃并吡啶基、噻吩并二吡啶基、苯并硒吩并吡啶和硒吩二吡啶基中的至少一种。
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