[发明专利]量子点墨水、量子点薄膜的制备方法在审

专利信息
申请号: 201911402959.7 申请日: 2019-12-30
公开(公告)号: CN113122053A 公开(公告)日: 2021-07-16
发明(设计)人: 李雪 申请(专利权)人: TCL集团股份有限公司
主分类号: C09D11/30 分类号: C09D11/30;C09D11/36;H01L51/50
代理公司: 深圳中一联合知识产权代理有限公司 44414 代理人: 曹柳
地址: 516006 广东省*** 国省代码: 广东;44
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 量子 墨水 薄膜 制备 方法
【权利要求书】:

1.一种量子点墨水,其特征在于,所述量子点墨水包括至少一种量子点材料和至少一种吡啶醇类有机溶剂,所述吡啶醇类有机溶剂的结构通式如下式I所示:

其中,a,b分别独立地为0~2的整数,且a,b不同时为0;

R1,R2分别独立地选自:取代或未被取代的烷基、取代或未被取代的环烷基中的至少一种。

2.如权利要求1所述的量子点墨水,其特征在于,所述取代或未被取代的烷基为取代或未被取代的碳原子数为2~25的烷基;

所述取代或未被取代的环烷基为取代或未被取代的碳原子数为3~25的环烷基;

其中,所述取代的烷基中的取代基、所述取代的环烷基中的取代基分别独立地选自:芳基、硝基、氰基、氨基、卤素、羟基、羧基、酯基、羰基、烯基、炔基、环烷基、烷氧基、芳氧基、杂芳氧基、烷氧羰基、全氟烷基、全氟烷氧基、芳氧基、硫代烷氧基、-N(R3)(R4)、-S(O)2-N(R3)(R4)、-C(=O)-N(R3)(R4)、(R3)(R4)正烷基、(R3)(R4)正烷氧基、(R3)(R4)正烷基芳氧基烷基、-S(O)x-芳基、-S(O)x-杂芳基、甲硅烷基基团中的至少一种;其中,x为0~2的整数;R3、R4分别独立地选自:烷基、环烷基、芳基中的一种。

3.如权利要求2所述的量子点墨水,其特征在于,所述碳原子数为2~25的烷基选自:丁基、戊基、己基、庚基、辛基、壬基、癸基、十一烷基、十二烷基、十六烷基、十八烷基及其同分异构体中的至少一种;和/或,

所述碳原子数为3~25的环烷基选自:环丁基、环戊基、环己基、环庚基、环辛基、环壬基、环癸基、环十一烷基及其同分异构体中的至少一种;和/或,

所述R3、R4分别独立地选自烷基时,所述烷基选自碳原子数为1~25的烷基;和/或,

所述芳基选自:苯基、联苯基、三苯基、苯并基、萘基、蒽基、迫苯并萘基、菲基、芴基、芘基、屈基、苝基、薁基中的至少一种;和/或,

所述杂芳基选自:二苯并噻吩基、二苯并呋喃基、呋喃基、噻吩基、苯并呋喃基、苯并噻吩基、咔唑基、吡唑基、咪唑基、三氮唑基、异恶唑基、噻唑基、噁二唑基、噁三唑基、二恶唑基、噻二唑基、吡啶基、哒嗪基、嘧啶基、吡嗪基、三嗪基、恶嗪基、噻嗪基、恶二嗪基、吲哚基、苯并咪唑基、吲唑基、吲哚嗪基、苯并恶唑基、异恶唑基、苯并噻唑基、喹啉基、异喹啉基、邻二氮(杂)萘基、喹唑啉基、喹喔啉基、萘基、酞基,蝶啶基、氧杂蒽基、吖啶基、吩嗪基、吩噻嗪基、吩恶嗪基、二苯并硒吩基、苯并硒吩基、苯并呋喃并吡啶吡唑基、吲哚咔唑基、吡啶基吲哚基、吡咯二吡啶并吲哚基、呋喃二吡啶基、苯并噻吩呋喃并吡啶基、噻吩并二吡啶基、苯并硒吩并吡啶和硒吩二吡啶基中的至少一种。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于TCL集团股份有限公司,未经TCL集团股份有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201911402959.7/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top