[发明专利]基片处理系统及其维护方法

说明书

一种基片处理系统及其工作方法，其中，基片处理系统包括：传输腔，具有若干个第一基片传输口；若干个工艺腔，各个所述工艺腔具有第二基片传输口，所述第二基片传输口与第一基片传输口一一相对设置，各个所述工艺腔具有密封阀板，所述密封阀板用于密封第二基片传输口；共享阀板，用于密封所述第一基片传输口；传输轨道，用于传输所述共享阀板；驱动装置，用于使所述共享阀板密封第一基片传输口。所述基片处理系统既能够减少工艺腔与传输腔之间阀板的个数，又能够实现对工艺腔进行维护时不破坏传输腔内的真空环境。

技术领域

本发明涉及半导体领域，尤其涉及一种基片处理系统及其维护方法。

背景技术

现有的基片处理系统通常包括设备前端模组、真空锁(Load Lock)、传输腔以及包围传输腔的多个工艺腔。其中，传输腔内安装有机械臂(Robot)，所述机械臂用于将待处理基片从真空锁内取出，并放置到任意一个工艺腔中，在所述工艺腔内，对待处理基片进行处理，待处理基片处理完成后，机械臂再将处理完的基片从工艺腔内取出，并将处理完的基片传送到外界大气环境中。

现有的基片处理系统中，所述传输腔与工艺腔之间设置一个阀板，当所述工艺腔需要维护时，拆除所述阀板将破坏传输腔的真空环境，使得传输腔难以继续向其它工艺腔内传输待处理基片，即：基片处理系统中断。

为了解决上述问题，在所述传输腔与工艺腔之间设置两个阀板，一个阀板用于密封工艺腔的开口，另一个阀板用于密封传输腔的开口。当工艺腔的阀板需要维护时，使传输腔的阀板密封传输腔，则所述传输腔内的真空环境不被破坏，使得传输腔还能够继续为其它工艺腔传输待处理基片，使基片处理系统不被中断。

然而，现有的基片处理系统通常在每一个工艺腔与传输腔之间均设置两个阀板，使得基片处理系统的成本较高，并且，只有当工艺腔需要维护时，用于密封传输腔的阀板才发挥作用，使得该阀板的利用率较低。

发明内容

本发明解决的技术问题是提供一种基片处理系统及其维护方法，以降低工艺腔与传输腔之间阀板的个数，且能够实现对工艺腔进行维护时不破坏传输腔内的真空环境。

为解决上述技术问题，本发明提供一种基片处理系统，包括：传输腔，具有若干个第一基片传输口；若干个工艺腔，各个所述工艺腔具有第二基片传输口，所述第二基片传输口与第一基片传输口一一相对设置，各个所述工艺腔具有密封阀板，所述密封阀板用于密封第二基片传输口；共享阀板，用于密封所述第一基片传输口；传输轨道，用于传输所述共享阀板；驱动装置，用于使所述共享阀板密封第一基片传输口。

可选的，若干个所述工艺腔位于所述传输腔的同一侧；所述传输轨道为直线；所述共享阀板的个数为1个。

可选的，所述工艺腔位于所述传输腔相对的第一侧和第二侧；所述传输轨道为直线；所述传输轨道的条数为两条，所述共享阀板的个数为两个，一条传输轨道传输一个共享阀板，一个共享阀板用于密封传输腔第一侧的第一基片传输口，另一个共享阀板用于密封传输腔第二侧的第一基片传输口。

可选的，若干个所述工艺腔环绕设置于传输腔的周围；所述传输轨道为多边形或者圆弧形。

可选的，所述传输轨道位于所述传输腔内。

可选的，所述共享阀板具有工作状态和闲置状态，所述共享阀板在工作状态时，所述共享阀板密封第一基片传输口，所述共享阀板在闲置状态时，所述共享阀板位于相邻的工艺腔之间的位置。

可选的，所述传输腔内具有机械臂，用于传输待处理基片；当所述共享阀板位于闲置状态时，所述共享阀板低于机械臂传递待处理基片的高度。

可选的，还包括：设备前端模组、真空锁。