[发明专利]一种贵金属掺杂的半导体复合材料的制备方法在审

专利信息
申请号: 201911406846.4 申请日: 2019-12-31
公开(公告)号: CN111128556A 公开(公告)日: 2020-05-08
发明(设计)人: 吴一萍;罗晶;姚静静;李琪 申请(专利权)人: 上海师范大学
主分类号: H01G9/20 分类号: H01G9/20;B01J23/66
代理公司: 上海伯瑞杰知识产权代理有限公司 31227 代理人: 曹莉
地址: 200234 *** 国省代码: 上海;31
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摘要:
搜索关键词: 一种 贵金属 掺杂 半导体 复合材料 制备 方法
【权利要求书】:

1.一种贵金属掺杂的半导体复合材料的制备方法,其步骤包括:

(1)将平面导电材料清洗、烘干;

(2)在非离子型高分子化合物中加入无水乙醇,搅拌,溶液中通氧10-20分钟;

(3)、在步骤(2)中的溶液中加入金属氯化物,搅拌溶解;加入贵金属化合物溶液和非离子型表面活性剂,搅拌并缓慢加入碱性溶剂和水,形成溶胶;

(4)、将步骤(3)中的溶胶滴在步骤(1)中的平面导电材料上,旋涂,使其表面覆盖;

(5)、将步骤(4)中的平面导电材料300-600℃煅烧1-3小时,冷却、水洗、吹干即可。

2.根据权利要求1所述的贵金属掺杂的半导体复合材料的制备方法,其特征在于:所述步骤(1)中的平面导电材料为氧化铟锡玻璃电极。

3.根据权利要求1所述的贵金属掺杂的半导体复合材料的制备方法,其特征在于:所述步骤(2)中的非离子型高分子化合物为聚丙烯酰胺、聚乙烯吡咯烷酮、聚乙烯醇或甲基纤维素中任一种。

4.根据权利要求1所述的贵金属掺杂的半导体复合材料的制备方法,其特征在于:所述步骤(3)中的金属氯化物、贵金属化合物和非离子型表面活性剂的加入量配比为1g:0.3-0.5mL:0.1-0.3mL;所述贵金属化合物的质量浓度为0.5-1.5%。

5.根据权利要求1或4所述的贵金属掺杂的半导体复合材料的制备方法,其特征在于:所述步骤(3)中金属氯化物为氯化亚锡、氯化锰、氯化亚铜或二氯化钛中的任一种。

6.根据权利要求1或4所述的贵金属掺杂的半导体复合材料的制备方法,其特征在于:所述步骤(3)中贵金属化合物为氯金酸、氯铂酸或氯钯酸中的任一种。

7.根据权利要求1所述的贵金属掺杂的半导体复合材料的制备方法,其特征在于:所述步骤(4)中,溶胶的旋涂比为3-10uL/cm2

8.根据权利要求1所述的贵金属掺杂的半导体复合材料的制备方法,其特征在于:所述步骤(4)中,平面导电材料450℃煅烧2小时,冷却至室温、摇床去离子水洗2-4分钟、氮气吹干。

9.一种贵金属掺杂的半导体复合材料,其特征在于通过权利要求1-8中任一项方法制备获得。

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