[发明专利]一种用于分解振镜和伺服位置的滤波器在审

专利信息
申请号: 201911407365.5 申请日: 2019-12-31
公开(公告)号: CN111049500A 公开(公告)日: 2020-04-21
发明(设计)人: 黄鑫;王嘉谦;杨小君;赵华龙;王自;姜宝宁 申请(专利权)人: 西安中科微精光子制造科技有限公司
主分类号: H03H17/02 分类号: H03H17/02;G02B26/08;B23K26/00
代理公司: 深圳市科进知识产权代理事务所(普通合伙) 44316 代理人: 曹卫良
地址: 710119 陕西省西安市高*** 国省代码: 陕西;61
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 一种 用于 分解 伺服 位置 滤波器
【说明书】:

发明涉及激光加工技术领域,具体涉及一种用于分解振镜和伺服位置的滤波器。其贝塞尔滤波器为4阶至10阶的高阶结构;优选的为7阶贝塞尔滤波器,所述7阶贝塞尔滤波器包括一个1阶滤波器和三个2阶滤波器,所述1阶滤波器和三个所述2阶滤波器共四个滤波器串联。与现有技术比较本发明的有益效果在于:该7阶贝塞尔数字滤波器,具有最大平坦群延时,群延时恒定,使得伺服运动轨迹在通带内保持了低频轨迹形状,对机构冲击小,有较好的加减速效果。使用该7阶贝塞尔数字滤波器,振镜位置响应快,可以满足和伺服位置同步,从而整体轨迹同步,加工效果最好。

技术领域

本发明涉及激光加工技术领域,具体涉及一种用于分解振镜和伺服位置的滤波器。

背景技术

现有在工业应用上,振镜和伺服联动控制光束位置有较多应用需求。其中主要的难点在于如何分解振镜和伺服位置,现有的技术中通常是利用一阶或者二阶低通贝塞尔滤波器进行处理,另外还可以使用有限脉冲响应(FIR)数字滤波器进行处理。

使用无限长单位脉冲响应的低通贝塞尔滤波器的优点是使用低阶就可以获得选择性,计算时算法的空间成本低,时间成本低。但是对于激光加工来讲,缺点是:若使用较低的阶数,则会使振镜和伺服这两个不同响应的执行机构存在着不太好的位置分离,导致低通滤波后的伺服位置存在较大冲击,从而对机构产生较大的冲击,导致执行位置异常。

使用有限脉冲响应(FIR)数字滤波器的优点是有严格的线性相位,但是因为系统函数的极点固定在原点,只能选择较高的阶数达到高的选择性,一般比贝塞尔滤波器阶数要高5到10倍,计算上时间成本较高,信号延时较大。

如上所述,使用现有的低阶的贝塞尔滤波器和有限脉冲响应(FIR)数字滤波器皆无法满足工程需要。

因此,急需研发一种能够用于分解振镜和伺服位置的滤波器。

发明内容

有鉴于此,为了解决现有的滤波器不能很好地分解振镜和伺服位置的问题,本发明提供一种用于分解振镜和伺服位置的滤波器,其贝塞尔滤波器为4阶至10阶的高阶结构。

较佳的,所述贝塞尔滤波器为7阶贝塞尔滤波器,所述7阶贝塞尔滤波器包括一个1阶滤波器和三个2阶滤波器。

较佳的,所述1阶滤波器和三个所述2阶滤波器共四个滤波器串联。

较佳地,上述4个串联的滤波器的迭代关系为:

较佳地,所述7阶贝塞尔滤波器的离散化差分方程为:

较佳地,所述7阶贝塞尔滤波器的最小相位传递函数为:

其中,θn(s)为反向贝塞尔多项式,ω0为低通截止频率。

与现有技术比较本发明的有益效果在于:

本发明提供了一种用于分解振镜和伺服位置的滤波器,7阶贝塞尔数字滤波器,具有最大平坦群延时,群延时恒定,使得伺服运动轨迹在通带内保持了低频轨迹形状,对机构冲击小,有较好的加减速效果。振镜位置响应快,可以满足和伺服位置同步,从而整体轨迹同步,加工效果最好。

附图说明

为了更清楚地说明本发明实施例中的技术方案,下面将对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍,显而易见地,下面描述中的附图仅仅是本发明的一些实施例,对于本领域普通技术人员来讲,在不付出创造性劳动性的前提下,还可以根据这些附图获得其他的附图。

图1为体现滤波器系数存在极小量时的计算误差值的曲线;

图2为第一仿真组仿真示意图;

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于西安中科微精光子制造科技有限公司,未经西安中科微精光子制造科技有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201911407365.5/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top