[发明专利]金属有机物化学气相沉积反应器有效
申请号: | 201911411224.0 | 申请日: | 2019-12-31 |
公开(公告)号: | CN113122823B | 公开(公告)日: | 2023-03-07 |
发明(设计)人: | 王文;胡建正;郭泉泳;郭世平 | 申请(专利权)人: | 中微半导体设备(上海)股份有限公司;南昌中微半导体设备有限公司 |
主分类号: | C23C16/455 | 分类号: | C23C16/455;C23C16/30;H01L33/32 |
代理公司: | 上海元好知识产权代理有限公司 31323 | 代理人: | 包姝晴;张静洁 |
地址: | 201201 上海市浦东新*** | 国省代码: | 上海;31 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | |||
搜索关键词: | 金属 有机物 化学 沉积 反应器 | ||
1.一种金属有机化学气相沉积反应器,其特征在于,包括:
反应腔,其顶部包括气体喷淋头,所述气体喷淋头包括第一输入端口、第二输入端口和第三输入端口;
前驱物输送管道组,与多种前驱物源连接,所述前驱物输送管道组包括镓前驱物输送管道、铟前驱物输送管道和硅前驱物输送管道,所述多种前驱物源包括镓前驱物源、铟前驱物源和硅前驱物源,所述镓前驱物输送管道与镓前驱物源连接,所述铟前驱物输送管道与铟前驱物源连接,所述硅前驱物输送管道与硅前驱物源连接;
前驱物汇合输入管道,与前驱物输送管道组连通,用于汇合多种前驱物,连通所述气体喷淋头的第一输入端口,用于向所述反应腔内输入镓前驱物、铟前驱物和硅前驱物;
镁前驱物输入管道,与镁前驱物源连接,且连通所述气体喷淋头的第二输入端口,用于向所述反应腔内输入镁前驱物;
氮前驱物输送管道,与氮前驱物源连接,且连通所述气体喷淋头的第三输入端口,用于向所述反应腔内输入氮前驱物;
所述气体喷淋头包括第一扩散空间、与第一扩散空间连接的第一输送管道、第二扩散空间以及与第二扩散空间连通的第二输送管道,所述第一扩散空间具有第一输入端口和第二输入端口,所述第二扩散空间具有第三输入端口。
2.如权利要求1所述的金属有机化学气相沉积反应器,其特征在于,所述前驱物输送管道组与前驱物汇合输入管道之间还设置有第一注入阀导,所述第一注入阀导包括第一通道和第二通道,第一通道和第二通道均与前驱物输送管道组连通,当第二通道开启时,第二通道与前驱物汇合管道连通。
3.如权利要求1所述的金属有机化学气相沉积反应器,其特征在于,还包括:镁前驱物传输管道、以及位于所述镁前驱物传输管道与镁前驱物输入管道之间的第二注入阀导,所述第二注入阀导包括第三通道和第四通道,第三通道和第四通道均与镁前驱物传输管道连通,当第四通道开启时,第四通道与镁前驱物输入管道连通。
4.如权利要求2所述的金属有机化学气相沉积反应器,其特征在于,还包括:与第一注入阀导连接的第一排尾气管道,当第一通道开启时,使第一通道与第一排尾气管道连通,用于排出多种前驱物源。
5.如权利要求3所述的金属有机化学气相沉积反应器,其特征在于,还包括:与第二注入阀导连接的第二排尾气管道,当第三通道开启时,使所述第三通道与第二排尾气管道连通,用于排出镁前驱物源。
6.如权利要求1所述的金属有机化学气相沉积反应器,其特征在于,还包括:托盘,位于所述反应腔内,与所述气体喷淋头相对设置,所述托盘内设置若干个基片槽,各个所述基片槽用于容纳待处理基片。
7.如权利要求6所述的金属有机化学气相沉积反应器,其特征在于,还包括:旋转装置,用于驱动所述托盘旋转。
8.如权利要求7所述的金属有机化学气相沉积反应器,其特征在于,还包括:加热装置,用于对所述托盘进行加热。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于中微半导体设备(上海)股份有限公司;南昌中微半导体设备有限公司,未经中微半导体设备(上海)股份有限公司;南昌中微半导体设备有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201911411224.0/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇:图像处理方法及电子设备
- 下一篇:一种白介素6的均相检测试剂盒及其应用
- 同类专利
- 专利分类
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的