[发明专利]一种抛光设备在审
申请号: | 201911416208.0 | 申请日: | 2019-12-31 |
公开(公告)号: | CN113118938A | 公开(公告)日: | 2021-07-16 |
发明(设计)人: | 杨兆明;颜凯;中原司 | 申请(专利权)人: | 浙江芯晖装备技术有限公司 |
主分类号: | B24B27/00 | 分类号: | B24B27/00;B24B29/02;B24B53/007;B24B41/00;B24B55/06;B08B3/04 |
代理公司: | 北京品源专利代理有限公司 11332 | 代理人: | 胡彬 |
地址: | 314400 浙江省嘉兴市海宁市海*** | 国省代码: | 浙江;33 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 抛光 设备 | ||
1.一种抛光设备,其特征在于,包括:
安装台(1),其上沿第一水平方向排列设置有多个独立的抛光区(11);
传送机构(2),沿所述第一水平方向可移动地设置在所述安装台(1)上,以传送晶圆(100);
抛光机构(3),每个所述抛光区(11)内均设置有所述抛光机构(3),所述抛光机构(3)包括抛光盘(31)、抛光头(32)和抛光头清洗器(33),所述抛光盘(31)和所述抛光头(32)均可转动地设置在所述安装台(1)上,所述抛光头(32)沿第二水平方向可移动且沿竖直方向可升降地设置在所述安装台(1)上,所述抛光头(32)能够吸附所述传送机构(2)上的所述晶圆(100),并将所述晶圆(100)移动至所述抛光盘(31)的上方,所述抛光盘(31)能够与所述抛光头(32)相配合对所述晶圆(100)进行抛光,所述抛光头清洗器(33)固定设置在所述安装台(1)上,所述抛光头(32)沿所述第二水平方向移动时能够由所述抛光头清洗器(33)的上方经过,以使所述抛光头清洗器(33)能够清洗所述抛光头(32)。
2.根据权利要求1所述的抛光设备,其特征在于,所述抛光机构(3)还包括抛光盘清洗器(34),所述抛光盘清洗器(34)可转动地设置在所述安装台(1)上且位于所述抛光盘(31)的一侧,以清洗所述抛光盘(31)。
3.根据权利要求1所述的抛光设备,其特征在于,多个所述抛光区(11)的抛光精度沿所述第一水平方向依次增高。
4.根据权利要求3所述的抛光设备,其特征在于,所述抛光区(11)的数量为三个,三个所述抛光区(11)依次为粗抛区、中抛区和精抛区。
5.根据权利要求3所述的抛光设备,其特征在于,还包括装载机械手(4),所述安装台(1)上还设置有装载区(12),盛装有待抛光的所述晶圆(100)的装载晶圆盒(200)能够放置在所述装载区(12),所述装载机械手(4)能够将所述晶圆(100)由所述装载晶圆盒(200)中取出并放置在所述传送机构(2)上。
6.根据权利要求5所述的抛光设备,其特征在于,还包括卸载机械手(5),所述安装台(1)上还设置有卸载区(13),卸载晶圆盒(300)能够放置在所述卸载区(13),抛光后的所述晶圆(100)能够被放置在所述传送机构(2)上,所述卸载机械手(5)能够将所述传送机构(2)上的抛光后的所述晶圆(100)放入至所述卸载晶圆盒(300)中。
7.根据权利要求6所述的抛光设备,其特征在于,所述卸载区(13)设置有水槽(14),盛装有所述晶圆(100)的所述卸载晶圆盒(300)能够浸没在所述水槽(14)中。
8.根据权利要求6所述的抛光设备,其特征在于,所述装载区(12)沿所述第二水平方向与抛光精度最低的所述抛光区(11)相对设置;和/或
所述卸载区(13)沿所述第二水平方向与抛光精度最高的所述抛光区(11)相对设置。
9.根据权利要求1所述的抛光设备,其特征在于,所述抛光机构(3)还包括安装架(35),所述安装架(35)沿所述第二水平方向可移动且沿竖直方向可升降地设置在所述安装台(1)上,每个所述抛光机构(3)中包括至少两个所述抛光头(32),至少两个所述抛光头(32)均可转动地安装在所述安装架(35)上,以使至少两片所述晶圆(100)能够在同一个所述抛光盘(31)上抛光。
10.根据权利要求9所述的抛光设备,其特征在于,每个所述抛光机构(3)包括两个所述抛光头(32),两个所述抛光头(32)沿所述第一水平方向排列;和/或
每个所述抛光机构(3)包括四个所述抛光头(32),四个所述抛光头(32)呈正方形阵列设置。
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