[发明专利]电枢的清扫方法

权利要求书

1.一种电枢的清扫方法，其特征在于，包括：

获取待清扫电枢的中心轴的位置；

根据所述待清扫电枢的中心轴的位置驱动清扫装置的基准中心与电枢的中心轴正对；

获取所述待清扫电枢的电枢孔位置；

根据所述电枢孔位置驱动所述清扫装置的清扫组件对所述电枢孔进行清扫。

2.根据权利要求1所述的电枢的清扫方法，其特征在于，所述获取所述待清扫电枢的电枢孔位置包括：

在所述清扫装置上设置第一传感器，通过驱动所述第一传感器相对于所述待清扫电枢移动，以获取所述电枢孔位置。

3.根据权利要求2所述的电枢的清扫方法，其特征在于，所述获取所述待清扫电枢的电枢孔位置包括：驱动所述第一传感器相对于所述待清扫电枢移动，以获取第一电枢孔的位置；

根据所述第一电枢孔的位置获取其余电枢孔的位置。

4.根据权利要求3所述的电枢的清扫方法，其特征在于，所述获取所述待清扫电枢的电枢孔位置包括：

获取待清扫电枢的类型；

根据所述待清扫电枢的类型和所述第一电枢孔的位置获取其余电枢孔的位置。

5.根据权利要求1所述的电枢的清扫方法，其特征在于，所述根据所述电枢孔位置驱动所述清扫装置的清扫组件对所述电枢孔进行清扫，包括：

对所述待清扫电枢进行分区处理；

获取位于清扫空间的第一区电枢孔位置，根据所述第一区电枢孔位置驱动所述清扫装置的清扫组件对所述第一区电枢孔进行清扫；

完成对所述第一区电枢孔清扫后，翻转所述待清扫电枢使得第二区电枢孔至清扫空间；

获取所述第二区电枢孔位置，根据所述第二区电枢孔位置驱动所述清扫装置的清扫组件对所述第二区电枢孔进行清扫；

重复上述步骤至所述各区待清扫电枢的电枢孔都完成清扫。

6.根据权利要求5所述的电枢的清扫方法，其特征在于，所述获取所述第二区电枢孔位置，包括：

获取所述第二区电枢孔的第二电枢孔位置，根据所述第二电枢孔位置获取所述第二区其余电枢孔的位置。

7.根据权利要求5所述的电枢的清扫方法，其特征在于，所述清扫装置包括本体、设在本体上的悬臂、设在悬臂末端的清扫组件；

所述悬臂可以相对于所述本体围绕所述基准中心旋转；

所述悬臂驱动所述清扫组件根据所述电枢孔位置对各区所述电枢孔进行清扫。

8.根据权利要求7所述的电枢的清扫方法，其特征在于，所述悬臂带动所述清扫组件的旋转角度大于所述待清扫电枢的各区角度。

9.根据权利要求1所述的电枢的清扫方法，其特征在于，所述获取待清扫电枢的位置包括：视觉传感器拍摄所述电枢端面并记录电枢轴的圆心坐标；

根据所述电枢轴的圆心坐标，驱动所述清扫装置移动以使所述基准中心与所述电枢轴正对。

10.根据权利要求1所述的电枢的清扫方法，其特征在于，在所述获取待清扫电枢的位置步骤前还包括：通过运输平台将待清扫的电枢输送至清扫工位。