[发明专利]破膜现象的处理方法、装置、设备及计算机可读存储介质

说明书

本发明公开了一种破膜现象的处理方法、装置、设备及计算机可读存储介质。所述破膜现象的处理方法应用于破膜现象的处理设备，所述破膜现象的处理设备包括厚度测试显微镜、真空发生器和控制器，所述破膜现象的处理方法包括：通过所述厚度测试显微镜获取待测试基材表面的纳米胶的涂覆厚度；根据所述涂覆厚度、预先设定的涂覆厚度与真空气压之间的映射关系，确定目标真空气压值；根据所述目标真空气压值控制所述真空发生器，以调整所述破膜现象的处理设备内的气压值至所述目标真空气压值。本发明能够改善纳米防护胶涂覆过程中的破膜现象。

技术领域

本发明涉及控制技术领域，尤其涉及一种破膜现象的处理方法、装置、设备及计算机可读存储介质。

背景技术

纳米防护胶(以下简称纳米胶)是一种溶剂挥发性表面防护胶，因其应用简单、可快速形成防护膜层(60s～90s)，且防护膜层薄(膜层通常在10μm以下)，有较好的防水、防氧化的功能，常被应用于电子元器件的表面防护，及焊点保护等。但在实际应用过程中，随着纳米胶涂覆厚度的增加，常会出现膜层破膜的现象。

参照图1，图1为纳米胶涂覆过程中气泡及破膜现象产生的原理图。如图1所示，若初始涂覆的纳米胶过厚时，上层溶剂迅速挥发形成保护膜层，底部挥发的溶剂无法正常释放形成气泡，从而会产生破膜现象。一旦局部区域形成破膜，极易导致周边区域膜层脱落，最终影响纳米胶的防护功能。

因此，亟需一种可改善纳米防护胶涂覆过程中的破膜现象的方法。

发明内容

本发明的主要目的在于提供一种破膜现象的处理方法、装置、设备及计算机可读存储介质，旨在改善纳米防护胶涂覆过程中的破膜现象。

为实现上述目的，本发明提供一种破膜现象的处理方法，所述破膜现象的处理方法应用于破膜现象的处理设备，所述破膜现象的处理设备包括厚度测试显微镜、真空发生器和控制器，所述破膜现象的处理方法包括：

通过所述厚度测试显微镜获取待测试基材表面的纳米胶的涂覆厚度；

根据所述涂覆厚度、预先设定的涂覆厚度与真空气压之间的映射关系，确定目标真空气压值；

根据所述目标真空气压值控制所述真空发生器，以调整所述破膜现象的处理设备内的气压值至所述目标真空气压值。

可选地，所述破膜现象的处理设备还包括报警器，所述根据所述涂覆厚度、预先设定的涂覆厚度与真空气压之间的映射关系，确定目标真空气压值的步骤之前，还包括：

判断所述涂覆厚度是否大于预设阈值；

若所述涂覆厚度大于预设阈值，则控制所述报警器按第一预设方式进行报警；

若所述涂覆厚度小于或等于预设阈值，则执行步骤：根据所述涂覆厚度、预先设定的涂覆厚度与真空气压之间的映射关系，确定目标真空气压值。

可选地，所述破膜现象的处理设备还包括真空检测模块，所述破膜现象的处理方法还包括：

自控制所述真空发生器时开始计时，在达到第一预设时间时，通过所述真空检测模块检测当前真空气压值；

判断所述当前真空气压值是否等于所述目标真空气压值；

若所述当前真空气压值不等于所述目标真空气压值，则控制所述报警器按第二预设方式进行报警。

可选地，所述通过所述厚度测试显微镜获取待测试基材表面的纳米胶的涂覆厚度的步骤之前，还包括：

获取测试数据集，所述测试数据集包括测试厚度数据及对应的测试真空气压数据；

根据所述测试厚度数据和所述测试真空气压数据，设定涂覆厚度与真空气压之间的映射关系。

可选地，所述破膜现象的处理方法还包括：