[发明专利]靶材旋转结构、靶材安装结构以及离子源溅射系统

权利要求书

1.一种靶材安装结构，其特征在于，包括：靶材旋转结构，主轴、靶材底座以及固定支撑轴；

所述靶材底座上设有多个靶材安装座，各个所述靶材安装座连接螺杆；各个所述靶材安装座通过旋转轴连接涡轮上，所述涡轮分别与所述螺杆咬合；

所述主轴与所述靶材底座连接，带动所述靶材底座旋转；所述固定支撑轴通过单向逆止结构分别与所述靶材底座和螺杆的一端连接，所述螺杆的另一端通过涡轮与所述靶材安装座连接；

所述靶材旋转结构包括：靶材安装座以及传动机构；

所述靶材安装座用于安装靶材；所述传动机构带动所述旋转轴转动以转动靶材；所述靶材安装座通过旋转轴与所述传动机构连接，所述旋转轴内设有冷却水路，以对所述靶材进行冷却。

2.根据权利要求1所述的靶材安装结构，其特征在于，所述旋转轴与筒体的两端通过轴承固定连接，且所述旋转轴与筒体之间为密封设计。

3.根据权利要求2所述的靶材安装结构，其特征在于，所述旋转轴上设有环形的进水槽和出水槽，所述进水槽和出水槽通过水路连通，所述筒体在进水槽位置上开设进水口，所述筒体在出水槽位置上开设出水口；其中，所述水路从进水槽底部通过进水路引至靶材安装端部，并由所述靶材安装端部通过出水路引至出水槽底部。

4.根据权利要求3所述的靶材安装结构，其特征在于，所述旋转轴上设有密封槽，所述密封槽用于安装密封圈，与所述筒体之间形成真空密封。

5.根据权利要求4所述的靶材安装结构，其特征在于，所述旋转轴的进水槽与出水槽之间设有至少一个密封圈。

6.根据权利要求4所述的靶材安装结构，其特征在于，所述旋转轴的进水槽与一侧轴承之间设有至少两个密封圈，所述出水槽与另一侧轴承之间设有至少两个密封圈。

7.根据权利要求3所述的靶材安装结构，其特征在于，各个所述靶材安装座的旋转轴上的进水口与出水口依次通过管道串联，形成一条冷却水路。

8.一种离子源溅射系统，其特征在于，包括权利要求1-7任一项所述的靶材安装结构。