[发明专利]靶材旋转结构、靶材安装结构以及离子源溅射系统

说明书

本申请涉及一种靶材旋转结构，包括：靶材安装座以及传动机构；所述靶材安装座用于安装靶材；所述传动机构带动所述旋转轴转动以转动靶材；所述靶材安装座通过旋转轴与所述传动机构连接，所述旋转轴内设有冷却水路，以对所述靶材进行冷却。上述靶材旋转结构、靶材安装结构以及离子源溅射系统，通过靶材安装座的旋转轴内设置的冷却水路，实现在冷水散热的同时又保证靶材能正常旋转，使得靶材可以通过水冷这种高效的散热方式来避免温度过高，提升了离子源溅射系统的溅射质量。

技术领域

本申请涉及离子束溅射技术领域，尤其是一种靶材旋转结构、靶材安装结构以及离子源溅射系统。

背景技术

离子束溅射技术是使用离子源在真空中轰击不同材料的靶材表面，使得靶材材料沉积到产品表面的一种技术，离子束溅射技术是近些年发展起来的制备高质量薄膜的一种非常重要的方法，它具有其它制膜技术无法比拟的优点。且离子束溅射技术污染小，成膜条件精确可控。

传统的离子溅射系统在使用过程中，每个靶材的温度不能过高，否则容易影响镀膜效果，而由于靶材需要设计成够旋转结构，现有技术中缺乏对靶材进行水冷的技术方案。

发明内容

本申请的目的旨在解决上述的技术缺陷之一，特别是缺乏对靶材进行水冷的问题。

为了实现上述目的，本申请提供以下技术方案：

一种靶材旋转结构，包括：靶材安装座以及传动机构；

所述靶材安装座用于安装靶材；

所述传动机构带动所述旋转轴转动以转动靶材；

所述靶材安装座通过旋转轴与所述传动机构连接，所述旋转轴内设有冷却水路，以对所述靶材进行冷却。

在一个实施例中，所述旋转轴上设有环形的进水槽和出水槽，所述进水槽和出水槽通过水路连通；

所述筒体在进水槽位置上开设进水口，所述筒体在出水槽位置上开设出水口。

在一个实施例中，所述水路设于旋转轴内部；其中，所述水路从进水槽底部通过进水路引至靶材安装端部，并由所述靶材安装端部通过出水路引至出水槽底部。

在一个实施例中，所述旋转轴与筒体的两端通过轴承固定连接，且所述旋转轴与筒体之间为密封设计。

在一个实施例中，所述旋转轴上设有密封槽，所述密封槽用于安装密封圈，与所述筒体之间形成真空密封。

在一个实施例中，所述旋转轴的进水槽与出水槽之间设有至少一个密封圈。

在一个实施例中，所述旋转轴的进水槽与一侧轴承之间设有至少两个密封圈，所述出水槽与另一侧与轴承之间设有至少两个密封圈。

在一个实施例中，各个所述靶材安装座的旋转轴上的进水口与出水口依次通过管道串联，形成一条冷却水路。

一种靶材安装结构，包括上述的靶材旋转结构。

一种离子源溅射系统，包括上述的靶材旋转结构。

上述靶材旋转结构、靶材安装结构以及离子源溅射系统，通过靶材安装座的旋转轴内设置的冷却水路，实现在冷水散热的同时又保证靶材能正常旋转，使得靶材可以通过水冷这种高效的散热方式来避免温度过高，提升了离子源溅射系统的溅射质量。

本申请附加的方面和优点将在下面的描述中部分给出，这些将从下面的描述中变得明显，或通过本申请的实践了解到。

附图说明

本申请上述的和/或附加的方面和优点从下面结合附图对实施例的描述中将变得明显和容易理解，其中：

图1是传统的离子源溅射系统示意图；