[发明专利]检测膜片式真空压力计沉积物的方法

权利要求书

1.一种检测膜片式真空压力计沉积物的方法，包括：

步骤S1：将沉积物在预处理腔内进行激发，使沉积物成为气体状态；

步骤S2：气体状态的沉积物通过减压装置减压后，输入与减压装置相连的分析腔室；以及

步骤S3：在分析腔室内对沉积物进行质谱分析，完成沉积物的成分检测。

2.根据权利要求1所述的检测膜片式真空压力计沉积物的方法，步骤S1中，所述激发采用电子束激发或离子束激发。

3.根据权利要求1所述的检测膜片式真空压力计沉积物的方法，步骤S1中，通过对沉积物进行加热使沉积物气化。

4.根据权利要求1所述的检测膜片式真空压力计沉积物的方法，步骤S2中所述减压装置上包括不同尺寸的小孔或小孔阵列，通过限流的方式使气态沉积物压力降低。

5.根据权利要求1所述的检测膜片式真空压力计沉积物的方法，步骤S3中，在分析腔室中，通过质谱分析的方式对激发为气态的沉积物进行成分检测。

6.根据权利要求5所述的检测膜片式真空压力计沉积物的方法，质谱分析时所用的质谱分析仪器包括：磁偏转质谱计、离子阱质谱计、四极质谱计或飞行时间质谱计中任意一种。

7.根据权利要求5所述的检测膜片式真空压力计沉积物的方法，质谱分析时，根据不同质量数的气态沉积物的碎片峰确认各种沉积物成分的配比。

8.根据权利要求5所述的检测膜片式真空压力计沉积物的方法，质谱分析时，根据采样方式的不同，所述成分检测分为定性分析和定量分析两种形式。

9.根据权利要求8所述的检测膜片式真空压力计沉积物的方法，所述定性分析为单次采样，根据碎片峰确定杂质成分。

10.根据权利要求8所述的检测膜片式真空压力计沉积物的方法，所述定量分析，根据分子流质量歧视的特点，计算限流装置对不同质量数气体成分的流导，通过多次采样的方式对气体成分的改变进行计算，这样可以精确分析每种沉积物成分的具体含量。