[发明专利]检测膜片式真空压力计沉积物的方法在审

专利信息
申请号: 201911425726.9 申请日: 2019-12-31
公开(公告)号: CN111044602A 公开(公告)日: 2020-04-21
发明(设计)人: 王迪;林琳;郜晨希;刘瑞琪;远雁;郑旭;李超波 申请(专利权)人: 中国科学院微电子研究所
主分类号: G01N27/62 分类号: G01N27/62;G01N1/28
代理公司: 中科专利商标代理有限责任公司 11021 代理人: 吴梦圆
地址: 100029 *** 国省代码: 北京;11
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摘要:
搜索关键词: 检测 膜片 真空 压力计 沉积物 方法
【说明书】:

本公开提供一种检测膜片式真空压力计沉积物的方法,包括:步骤S1:将沉积物在预处理腔内进行激发,使沉积物成为气体状态;步骤S2:气体状态的沉积物通过减压装置减压后,输入与减压装置相连的分析腔室;以及步骤S3:在分析腔室内对沉积物进行质谱分析,完成沉积物的成分检测。通过将沉积物激发为气体状态后再进行质谱分析,以解决膜片式真空压力计沉积物分析的问题,从而针对不同的沉积物做合理的预防及清除。

技术领域

本公开涉及压力计技术领域,尤其涉及一种检测膜片式真空压力计沉积物的方法。

背景技术

膜片式真空压力计由于测量精度高,重复性和稳定性好,常用于需要精确测定和控制压力的场合。但受原理所限,在气体成分复杂,容易有沉积物的情况下,膜片式真空压力计的测量性能会受到很大的影响。针对不同成分的沉积物,需要有不同的预防措施和清除方法,但目前对沉积物的成分不完全明确,仅能通过理论分析推断沉积物可能的成分,从而进行预防和清除。常用的做法是利用一定的防沉积结构,将沉积物尽可能沉积在结构中而不是膜片中。与此同时,由于沉积结构大幅改变了气体流动的路径,所以不可避免对气体流态产生影响,进而影响压力的测量结果。因此,通过合理的装置对沉积物进行分析,并制定合理的方式进行清除是非常必要的。根据在不同使用环境中的沉积物情况,使用不同的防沉积结构和清除方式,延长膜片式真空压力计的使用寿命,提高其测量气体压力时的精度。

公开内容

(一)要解决的技术问题

基于上述问题,本公开提供了一种检测膜片式真空压力计沉积物的方法,以缓解现有技术中由于膜片式压力计受气体成分影响大、在使用过程中容易因沉积物导致测量结果不精确等技术问题。

(二)技术方案

本公开提供一种检测膜片式真空压力计沉积物的方法,包括:

步骤S1:将沉积物在预处理腔内进行激发,使沉积物成为气体状态;

步骤S2:气体状态的沉积物通过减压装置减压后,输入与减压装置相连的分析腔室;以及

步骤S3:在分析腔室内对沉积物进行质谱分析,完成沉积物的成分检测。

在本公开实施例中,所述激发采用电子束激发或离子束激发。

在本公开实施例中,步骤S1中,通过对沉积物进行加热使沉积物气化。

在本公开实施例中,步骤S2中所述减压装置上包括不同尺寸的小孔或小孔阵列,通过限流的方式使气态沉积物压力降低。

在本公开实施例中,步骤S3中,在分析腔室中,通过质谱分析的方式对激发为气态的沉积物进行成分检测。

在本公开实施例中,质谱分析时所用的质谱分析仪器包括:磁偏转质谱计、离子阱质谱计、四极质谱计或飞行时间质谱计中任意一种。

在本公开实施例中,质谱分析时,根据不同质量数的气态沉积物的碎片峰确认各种沉积物成分的配比。

在本公开实施例中,质谱分析时,根据采样方式的不同,所述成分检测分为定性分析和定量分析两种形式。

在本公开实施例中,所述定性分析为单次采样,根据碎片峰确定杂质成分。

在本公开实施例中,所述定量分析,根据分子流质量歧视的特点,计算限流装置对不同质量数气体成分的流导,通过多次采样的方式对气体成分的改变进行计算,这样可以精确分析每种沉积物成分的具体含量。

(三)有益效果

从上述技术方案可以看出,本公开检测膜片式真空压力计沉积物的方法至少具有以下有益效果其中之一或其中一部分:

(1)可以有针对性地对沉积物进行预防和清除;

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