[发明专利]一种检测膜片式真空压力计沉积物的装置及其应用

权利要求书

1.一种检测膜片式真空压力计沉积物的装置，其特征在于，所述装置包括：

预处理腔室(1)，用于将所述膜片式真空压力计中带有沉积物的膜片表面进行预处理，去除杂质；

气化腔室(2)，用于将膜片表面的沉积物气化；

分析腔室(3)，所述分析腔室(3)与所述气化腔室(2)连通，用于分析气化后的沉积物气体的组成成分。

2.根据权利要求1所述的装置，其特征在于，所述气化腔室(2)中设置电子枪或离子注入装置，所述电子枪或离子注入装置用于轰击膜片表面的沉积物，使该沉积物气化。

3.根据权利要求1所述的装置，其特征在于，所述气化腔室(2)中设置第一加热装置，所述第一加热装置用于轰击膜片表面的沉积物，使该沉积物气化。

4.根据权利要求1所述的装置，其特征在于，所述预处理腔室(1)中设置第二加热装置，所述第二加热装置用于去除水蒸气。

5.根据权利要求1所述的装置，其特征在于，所述装置还包括减压装置(4)，所述减压装置(4)设置于所述气化腔室(2)与所述分析腔室(3)之间，用于对气化后的沉积物气体进行减压。

6.根据权利要求5所述的装置，其特征在于，所述减压装置(4)包括流体通道和设置于同一平面上的N个不同直径的孔或孔阵，该平面垂直于所述流体通道，N≥2。

7.根据权利要求1所述的装置，其特征在于，所述分析腔室(3)中设置质谱分析仪器。

8.根据权利要求7所述的装置，其特征在于，所述质谱分析仪器为磁偏转质谱计、离子阱质谱计、四极质谱计、飞行时间质谱计中的一种。

9.根据权利要求1所述的装置，其特征在于，所述预处理腔室(1)、所述气化腔室(2)、所述分析腔室(3)和所述减压装置(4)均设置相应的真空度。

10.一种利用权利要求1-9所述的装置进行膜片式真空压力计沉积物清除的应用。