[发明专利]一种检测膜片式真空压力计沉积物的装置及其应用

说明书

本发明提供了一种检测膜片式真空压力计沉积物的装置及其应用，所述装置包括：预处理腔室，用于将所述膜片式真空压力计中带有沉积物的膜片表面进行预处理，去除杂质；气化腔室，用于将膜片表面的沉积物气化；分析腔室，所述分析腔室与所述气化腔室连通，用于分析气化后的沉积物气体的组成成分。实现对膜片式真空压力计沉积物的成分进行分析的目的。

技术领域

本发明涉及真空压力计领域，具体涉及一种检测膜片式真空压力计沉积物的装置及其应用。

背景技术

膜片式真空压力计由于测量精度高，重复性和稳定性好，常用于需要精确测定和控制压力的场合。但在气体成分复杂，容易有沉积物的情况下，在测量过程中，沉积物沉积到膜片上，会导致膜片式真空压力计的测量性能受到很大的影响。而针对不同成分的沉积物，通常需要有不同的预防措施和清除方法，但目前对沉积物的成分不完全明确，仅能通过理论分析推断沉积物可能的成分，从而进行预防和清除。

现有技术中对沉积物进行预防和清除，通常是在膜片式真空压力计中设置防沉积结构，将沉积物尽可能沉积在结构中而不是膜片上。但该沉积结构通常设置于流体进入膜片式真空压力计的通道上，这样，沉积结构大幅改变了气体流动的路径，不可避免会对气体流态产生影响，进而影响压力的测量结果。

因此，通过合理的装置对沉积物进行分析，并制定合理的方式清除是十分必要的。这样才能根据在不同使用环境中的沉积物情况，采用不同的预防和清除方式，延长膜片式真空压力计的使用寿命，提高其测量气体压力时的精度。

发明内容

(一)要解决的技术问题

如何通过合理的装置对沉积物进行分析，以便后续根据不同成分的沉积物实现采用不同的预防和清除方式。

(二)技术方案

为了解决上述问题，本发明实施例一方面提供了一种检测膜片式真空压力计沉积物的装置，所述装置包括：预处理腔室，用于将所述膜片式真空压力计中带有沉积物的膜片表面进行预处理，去除杂质；气化腔室，用于将膜片表面的沉积物气化；分析腔室，所述分析腔室与所述气化腔室连通，用于分析气化后的沉积物气体的组成成分。

可选地，所述气化腔室中设置电子枪或离子注入装置，所述电子枪或离子注入装置用于轰击膜片表面的沉积物，使该沉积物气化。

可选地，所述气化腔室中设置第一加热装置，所述第一加热装置用于轰击膜片表面的沉积物，使该沉积物气化。

可选地，所述预处理腔室中设置第二加热装置，所述第二加热装置用于去除水蒸气。

可选地，所述装置还包括减压装置，所述减压装置设置于所述气化腔室与所述分析腔室之间，用于对气化后的沉积物气体进行减压。

可选地，所述减压装置包括流体通道和设置于同一平面上的N个不同直径的孔或孔阵，该平面垂直于所述流体通道，N≥2。

可选地，所述分析腔室中设置质谱分析仪器。

可选地，所述质谱分析仪器为磁偏转质谱计、离子阱质谱计、四极质谱计、飞行时间质谱计中的一种。

可选地，所述预处理腔室、所述气化腔室、所述分析腔室和所述减压装置均设置相应的真空度。

本发明另一个方面提供了一种利用上文所述的装置进行膜片式真空压力计沉积物清除的应用。

(三)有益效果

本发明至少具有以下有益效果：

(1)通过依次连接的预处理腔室、气化腔室、减压装置、和分析腔室将膜片式真空压力计中带有沉积物的膜片表面的沉积物气化后，对其成分进行分析，以便于后期在同样的环境中进行压力测量时，可以有针对性地对已知成分的沉积物进行预防和清除。