[实用新型]一种抗硫化厚膜晶片电阻有效

专利信息
申请号: 201920044742.2 申请日: 2019-01-11
公开(公告)号: CN209249221U 公开(公告)日: 2019-08-13
发明(设计)人: 田仁忠;贾碧溪;徐教文 申请(专利权)人: 江西昶龙科技有限公司
主分类号: H01C1/032 分类号: H01C1/032;H01C1/142;H01C1/04;H01C7/00
代理公司: 南昌赣专知识产权代理有限公司 36129 代理人: 文珊
地址: 332000 江西省九江市柴*** 国省代码: 江西;36
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 晶片电阻 厚膜晶片 陶瓷基板 正面电极 抗硫化 电阻 背面电极 电阻基体 抗硫化层 字码层 铺设 本实用新型 玻璃纤维层 印刷 断路 硫化 喷涂 电路 外部
【说明书】:

实用新型属于晶片电阻技术领域,尤其涉及一种抗硫化厚膜晶片电阻,包括晶片电阻本体和字码层,所述晶片电阻本体的正面喷涂有字码层,且晶片电阻本体包括陶瓷基板,所述陶瓷基板的顶部和底部分别印刷有正面电极和背面电极,且陶瓷基板顶端的中部印刷有电阻基体,所述正面电极的外部铺设有抗硫化层,所述电阻基体的顶部铺设有玻璃纤维层。该抗硫化厚膜晶片电阻,通过设置抗硫化层,可以在晶片电阻使用的过程中,对晶片电阻本体内部的正面电极和背面电极起到了保护的作用,避免了晶片电阻在有硫存在的环境下因硫化而发生断路的问题,使得电路能够顺畅运行,确保了晶片电阻的性能,从而提高了其准确性和稳定性。

技术领域

本实用新型属于晶片电阻技术领域,具体涉及一种抗硫化厚膜晶片电阻。

背景技术

晶片电阻又称电子被动元件,通常以银作为电阻两端的电极,但是,在有硫存在的环境下,由于目前银电极表面的保护层不能很好的起到保护作用,容易使得银与硫接触生成硫化银,从而发生电阻断路的问题,严重影响了晶片电阻的性能,降低了其准确性和稳定性。

实用新型内容

本实用新型的目的在于提供一种抗硫化厚膜晶片电阻,以解决上述背景技术中提出的问题。

为实现上述目的,本实用新型提供如下技术方案:一种抗硫化厚膜晶片电阻,包括晶片电阻本体和字码层,所述晶片电阻本体的正面喷涂有字码层,且晶片电阻本体包括陶瓷基板,所述陶瓷基板的顶部和底部分别印刷有正面电极和背面电极,且陶瓷基板顶端的中部印刷有电阻基体,所述正面电极的外部铺设有抗硫化层,所述电阻基体的顶部铺设有玻璃纤维层,所述玻璃纤维层的顶部铺设有树脂层,所述陶瓷基板的外部设置有保护层,所述保护层的顶部喷涂有字码层,所述正面电极的一侧与电阻基体的侧面相接触,且正面电极与背面电极的数量相等,所述正面电极与背面电极的外部均铺设有抗硫化层。

优选的,所述抗硫化层的材质为铁铝合金,且抗硫化层的外部与保护层的内部相接触。

优选的,所述树脂层位于保护层的内部,且树脂层的厚度值大于玻璃纤维层的厚度值。

优选的,所述保护层包括第一保护层和第二保护层,所述第一保护层与抗硫化层和陶瓷基板的侧面相接触,且第一保护层的外部铺设有第二保护层,所述第二保护层的材质为锡金属。

优选的,所述第一保护层与第二保护层的厚度值相同,且第一保护层的材质为镍金属。

与现有技术相比,本实用新型的有益效果是:

1、该抗硫化厚膜晶片电阻,通过设置抗硫化层,可以在晶片电阻使用的过程中,对晶片电阻本体内部的正面电极和背面电极起到了保护的作用,避免了晶片电阻在有硫存在的环境下因硫化而发生断路的问题,使得电路能够顺畅运行,确保了晶片电阻的性能,从而提高了其准确性和稳定性。

2、该抗硫化厚膜晶片电阻,通过设置玻璃纤维层和树脂层,可以在晶片电阻使用的过程中,对电阻基体起到了保护的作用,避免了电阻基体因外部因素的影响而发生损坏的问题,从而提高了电阻基体的使用寿命,确保了晶片电阻能够正常平稳的运行。

附图说明

图1为本实用新型结构的正面示意图;

图2为本实用新型结构的侧面剖视图。

图中:1、晶片电阻本体;11、陶瓷基板;12、正面电极;13、背面电极; 14、电阻基体;15、抗硫化层;16、玻璃纤维层;17、树脂层;18、保护层; a、第一保护层;b、第二保护层;2、字码层。

具体实施方式

下面结合实施例对本实用新型做进一步的描述。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于江西昶龙科技有限公司,未经江西昶龙科技有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201920044742.2/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top