[实用新型]一种具有除尘功能的PECVD下料装置有效
申请号: | 201920059026.1 | 申请日: | 2019-01-15 |
公开(公告)号: | CN209508406U | 公开(公告)日: | 2019-10-18 |
发明(设计)人: | 康天天 | 申请(专利权)人: | 高平市融高太阳能开发有限公司 |
主分类号: | C23C16/50 | 分类号: | C23C16/50 |
代理公司: | 暂无信息 | 代理人: | 暂无信息 |
地址: | 048000 山*** | 国省代码: | 山西;14 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 下料 下料装置 机械臂 除尘功能 底部外壁 外壁设置 氮化硅 连接板 收集箱 粉尘 吸盘 鼓风机 本实用新型 支撑板顶部 底部内壁 顶部内壁 内部空气 托板顶部 左右两侧 引风机 支撑板 飞溅 风刀 内壁 托板 吸收 污染 保证 | ||
本实用新型公开了PECVD下料装置技术领域的一种具有除尘功能的PECVD下料装置,包括下料本体与机械臂,下料本体顶部内壁设置有机械臂,机械臂底部外壁设置有连接板,连接板底部外壁设置有吸盘,下料本体左右两侧中央内壁之间设置有托板,托板顶部外壁设置有风刀,下料本体左侧底部内壁设置有支撑板,支撑板顶部外壁设置有鼓风机,装置中通过引风机工作,将下料本体内部空气抽入到收集箱中,使清理产生的氮化硅粉尘也被吸收到收集箱中,确保氮化硅粉尘不会四处飞溅,使周围环境不被污染,保证工作人员的身体健康。
技术领域
本实用新型涉及PECVD下料装置技术领域,具体为一种具有除尘功能的PECVD下料装置。
背景技术
硅片在传输下料的过程中,硅片的镀膜面会累积大量氮化硅粉尘,需要进行清理,以保证印刷时的质量,然而通过风刀将硅片的氮化硅粉尘吹走时,粉尘会四处飞溅,污染周围的环境,影响人们身体健康,为此,我们提出一种具有除尘功能的PECVD下料装置。
实用新型内容
本实用新型的目的在于提供一种具有除尘功能的PECVD下料装置,以解决上述背景技术中提出的问题。
为实现上述目的,本实用新型提供如下技术方案:一种具有除尘功能的PECVD下料装置,包括下料本体与机械臂,下料本体顶部内壁设置有机械臂,机械臂底部外壁设置有连接板,连接板底部外壁设置有吸盘,下料本体左右两侧中央内壁之间设置有托板,托板顶部外壁设置有风刀,下料本体左侧底部内壁设置有支撑板,支撑板顶部外壁设置有鼓风机,鼓风机左侧外壁出口与电磁阀连接,电磁阀左侧外壁设置有通风管,通风管远离电磁阀的一端与风刀左侧外壁连接,下料本体右侧外壁开设有开槽,下料本体右侧外壁设置有连接管,开槽位于连接管的正左侧,连接管远离下料本体的一端与收集箱连接,收集箱左侧外壁与下料本体右侧底部外壁连接,收集箱底部右侧内壁设置有引风机,收集箱底部左侧外壁开设有出风口,出风口内腔设置有筛网。
优选的,出风口左右两侧内壁均设置有支撑块,支撑块底部外壁设置有弹簧,弹簧底端与筛网顶部外壁相贴合,收集箱底部外壁设置有两组转轴,两组转轴相互靠近的一端均设置有挡块,挡块顶部外壁与筛网底部外壁相贴合。
优选的,下料本体右壁开设有滑槽,滑槽底端与开槽顶端连接,滑槽顶部内壁设置有支撑弹簧,支撑弹簧底端设置有挡板,挡板底端延伸至开槽的内腔并与电生磁装置连接,开槽底部内壁设置有磁块,磁块顶部外壁与电生磁装置底部外壁相贴合。
优选的,收集箱左侧外壁设置有卡块,下料本体与收集箱的连接部位开设有与卡块相匹配的卡槽。
优选的,挡块顶部外壁设置有定位块,筛网底部左右两侧外壁均开设有定位槽,定位块顶端插接在定位槽的内腔,且定位块与定位槽的竖截面均呈半圆形。
优选的,吸盘个数共有八组,且八组吸盘呈矩形阵列排布。
与现有技术相比,本实用新型的有益效果是:
1.装置中通过引风机工作,将下料本体内部空气抽入到收集箱中,使清理产生的氮化硅粉尘也被吸收到收集箱中,确保氮化硅粉尘不会四处飞溅,使周围环境不被污染,保证工作人员的身体健康;
2.电生磁装置停止工作使磁场消失,通过支撑弹簧扩张,使挡板向下移动将开槽堵住,避免收集箱中收集的粉尘飞出而造成环境污染,同时将挡块从筛网下方转走,通过弹簧扩张,使筛网从出风口处弹出,方便清理筛网,避免筛网堵塞而影响收集箱工作。
附图说明
图1为本实用新型结构示意图;
图2为本实用新型挡块与筛网连接结构示意图。
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C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的