[实用新型]一种改善应力型滤波片结构及波分复用器有效
| 申请号： | 201920063605.3 | 申请日： | 2019-01-15 |
| 公开（公告）号： | CN209215617U | 公开（公告）日： | 2019-08-06 |
| 发明（设计）人： | 林耀忠;周强;刘远;李京辉 | 申请（专利权）人： | 北极光电(深圳)有限公司 |
| 主分类号： | G02B5/20 | 分类号： | G02B5/20;G02B6/293 |
| 代理公司： | 深圳市千纳专利代理有限公司 44218 | 代理人： | 董蕾 |
| 地址： | 518000 广东省深圳市宝安区石*** | 国省代码： | 广东;44 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 光学薄膜层 滤波片 切割槽 本实用新型 穿透 光纤通讯领域 四边 波分复用器 滤波片组装 独立薄膜 使用性能 应力均衡 可调节 面型 应用 | ||
1.一种改善应力型滤波片结构，其特征在于，包括基体，基体上设有光学薄膜层，光学薄膜层上设有至少一条切割槽，切割槽将光学薄膜层分为至少两个独立薄膜区，切割槽的深度穿透光学薄膜层。
2.根据权利要求1所述的改善应力型滤波片结构，其特征在于：所述光学薄膜层上设有一条切割槽，所述切割槽处于光学薄膜层的中部，切割槽将光学薄膜层均分为两个独立薄膜区。
3.根据权利要求1所述的改善应力型滤波片结构，其特征在于：所述切割槽为1~4条。
4.根据权利要求1所述的改善应力型滤波片结构，其特征在于：所述切割槽的宽度为0.1mm至0.2mm。
5.根据权利要求1所述的改善应力型滤波片结构，其特征在于：所述切割槽为垂直型切割槽。
6.一种应用权利要求1至5任一所述改善应力型滤波片结构的波分复用器，其特征在于，包括：基座，基座的前侧面上设有抗反射光学膜，抗反射膜上设有用于供入射光线射入的入射端口，前侧面上还设有用于对入射至基体内的光线进行反射的高反射光学膜，高反射光学膜处于抗反射光学膜的上方，基座的后侧面上设有至少两个并排排列用于供光信号穿过的改善应力型滤波片结构，各改善应力型滤波片结构中光学薄膜层上设有出射端口，每个改善应力型滤波片结构上的各独立薄膜区分别设有出射端口。
7.根据权利要求6所述的波分复用器，其特征在于：各改善应力型滤波片结构上设有不同的光学薄膜层。
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