[实用新型]一种改善应力型滤波片结构及波分复用器

说明书

本实用新型提供了一种改善应力型滤波片结构，属于光纤通讯领域，包括基体，基体上设有光学薄膜层，光学薄膜层上设有至少一条切割槽，切割槽将光学薄膜层分为至少两个独立薄膜区，切割槽的深度穿透光学薄膜层。与现有技术相比，本实用新型的有益效果在于：本实用新型提供一种改善应力型滤波片结构，通过在对滤波片表面的光学薄膜层设置切割槽，切割槽的深度穿透光学薄膜层，使得光学薄膜层四边应力均衡，进而改善滤波片表面的面型以满足运用的需要；根据应用需要，可调节光学薄膜层的长和宽，改善光学薄膜层的应力，提升滤波片的使用性能，也方便后续滤波片组装固定。

技术领域

本实用新型涉及光纤通讯领域，特别是一种改善应力型滤波片结构及波分复用器。

背景技术

滤波片是在塑料或玻璃基材的表面蒸镀光学膜制成，用以衰减（吸收）光波中的某些光波段或以精确选择小范围波段光波通过，而反射（或吸收）掉其他不希望通过的波段。通过改变滤波片的膜层参数，可以获得各种光谱特性。

滤波片的镀膜当前主流之一就是采用离子束溅射镀膜法。该技术是通过在真空环境中，用离子源发出离子，经引出、加速、聚焦，使其成为束状，用此离子束轰击高真空的靶材，将溅射出的原子以高速度撞击在基材表面，并沉积在其表面上。溅射沉积过程，也就是光学薄膜在基材表面生长的过程，该过程中，光学薄膜层与基材之间的附着性好，光学薄膜层密度高、针孔少，且光学薄膜层厚度可控性和重复性好。

该技术的一个不足就是随着光学薄膜的厚度增加，即膜层数增多，光学薄膜的应力就越大，进而使得基材表面产生一定的面型形变，从而影响产品的光学性能或粘接固定性能。

图1所示为理想状态下的滤波片外型：1为基材，2为理想状态下的光学薄膜层，其光学薄膜表面面型是平面的。图2为实际状态下的滤波片外型：1为基材，2a为实际状态下的光学薄膜层，其光学薄膜表面面型是凸面，且随着应力变大而凸起高度更高。

为了提升滤波片的光学性能，同时为了适应小型化应用的需要，滤波片上的光学薄膜厚度高达100多层，且外形尺寸越来越小。这使得滤波片的光学薄膜面面型形变现象显得更为突出。这种形变进而使得产品光学性能变差，也会导致组装固定性能存在一些问题。

实用新型内容

针对上述问题，本实用新型提供了一种改善应力型滤波片结构，通过在对滤波片表面的光学薄膜层设置切割槽，使得光学薄膜层四边应力均衡，进而改善滤波片表面的面型，提升滤波片的使用性能，也方便后续滤波片组装固定。

本实用新型采用的技术方案为：

一种改善应力型滤波片结构，包括基体，基体上设有光学薄膜层，光学薄膜层上设有至少一条条切割槽，切割槽将光学薄膜层分为至少两个独立薄膜区，切割槽的深度穿透光学薄膜层。

优选地，所述光学薄膜层上设有一条切割槽，所述切割槽处于光学薄膜层的中部，切割槽将光学薄膜层均分为两个独立薄膜区。

优选地，所述切割槽为1~4条。

优选地，所述切割槽的宽度为0.1mm至0.2mm。

优选地，所述切割槽为垂直型切割槽。

本实用新型还提供一种应用该改善应力型滤波片结构的波分复用器，包括基座，基座的前侧面上设有抗反射光学膜，抗反射膜上设有用于供入射光线射入的入射端口，前侧面上还设有用于对入射至基体内的光线进行反射的高反射光学膜，高反射光学膜处于抗反射光学膜的上方，基座的后侧面上设有至少两个并排排列用于供光信号穿过的改善应力型滤波片结构，各改善应力型滤波片结构中光学薄膜层上设有出射端口，每个改善应力型滤波片结构上的各独立薄膜区分别设有出射端口。

优选地，各改善应力型滤波片结构上设有不同的光学薄膜层。