[实用新型]一种新型磁控溅射工艺混流装置

权利要求书

1.一种新型磁控溅射工艺混流装置，包括混流桶(1)和支架(2)，其特征是：所述混流桶(1)的上下方分别连通有进气管(3)，下层所述进气管(3)位于上层所述进气管(3)之间，所述混流桶(1)的上方通过螺栓安装有桶盖，所述桶盖的顶部通过螺钉安装有伺服电机(4)，所述伺服电机(4)的下方连接有混流器(5)，所述混流器(5)的上方为连接轴，所述混流器(5)的下方为螺旋状的混流桨，所述混流桨的侧面通过铆钉固定有导风条(6)，所述混流桶(1)的左侧连通有压气罐(7)，所述压气罐(7)与所述混流桶(1)之间为一体成型式结构，所述压气罐(7)的下方连通有气缸(8)，所述气缸(8)的上方通过螺纹副安装有压头(9)，所述压头(9)与所述压气罐(7)的底部之间通过螺丝安装有风琴式伸缩罩(10)，所述压气罐(7)的内侧上方焊接有内压桶(11)，所述内压桶(11)的表面设有若干进气口，所述内压桶(11)的直径大于所述风琴式伸缩罩(10)的直径，所述内压桶(11)的上方内侧焊接有弹簧，所述内压桶(11)的顶部设有出气管(12)，所述出气管(12)穿过所述压气罐(7)的顶部，所述出气管(12)的上方侧面安装有安全阀(13)，所述压气罐(7)和所述混流桶(1)焊接在所述支架(2)的上方内侧，所述气缸(8)的下方为缸筒，所述缸筒的底部通过螺杆安装在所述支架(2)的左侧，所述支架(2)的中下方为连接杆，所述缸筒位于所述连接杆的左上方。

2.根据权利要求1所述的一种新型磁控溅射工艺混流装置，其特征是：所述混流桶(1)和所述压气罐(7)为金属材质，所述压气罐(7)的直径小于所述混流桶(1)的直径，所述支架(2)为金属架。

3.根据权利要求1所述的一种新型磁控溅射工艺混流装置，其特征是：所述进气管(3)位于所述混流器(5)的左右两侧，上层所述进气管(3)和下层所述进气管(3)的长度相等，下层所述进气管(3)的顶部位于上层所述进气管(3)底部的上方。

4.根据权利要求1所述的一种新型磁控溅射工艺混流装置，其特征是：所述混流器(5)的连接轴与所述伺服电机(4)输出轴的键槽连接，所述连接轴与所述混流桨之间为一体成型式结构。

5.根据权利要求1所述的一种新型磁控溅射工艺混流装置，其特征是：所述导风条(6)共有若干条，材质为聚四氟乙烯，所述压气罐(7)与所述混流桶(1)之间设有连通腔。

6.根据权利要求1所述的一种新型磁控溅射工艺混流装置，其特征是：所述气缸(8)的上方为推杆，所述压头(9)位于所述推杆的顶部，所述压头(9)的直径小于所述风琴式伸缩罩(10)的直径。

7.根据权利要求1所述的一种新型磁控溅射工艺混流装置，其特征是：所述内压桶(11)位于所述混流器(5)的左侧，所述内压桶(11)的直径小于所述压气罐(7)的直径，且所述压气罐(7)的长度大于所述内压桶(11)的长度。

8.根据权利要求1所述的一种新型磁控溅射工艺混流装置，其特征是：所述出气管(12)与所述内压桶(11)之间为一体成型式结构，所述出气管(12)的长度小于所述进气管(3)的长度，之间相互平行。