[实用新型]一种热丝CVD化学气相沉积纳米金刚石涂层装置有效
申请号: | 201920093093.5 | 申请日: | 2019-01-18 |
公开(公告)号: | CN209685909U | 公开(公告)日: | 2019-11-26 |
发明(设计)人: | 葛强;李万春;郭乃祝 | 申请(专利权)人: | 珠海中纳金刚石有限公司 |
主分类号: | C23C16/27 | 分类号: | C23C16/27;C23C16/448;B82Y40/00 |
代理公司: | 44205 广州嘉权专利商标事务所有限公司 | 代理人: | 俞梁清<国际申请>=<国际公布>=<进入 |
地址: | 519000 广东省珠海*** | 国省代码: | 广东;44 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 热丝 内孔 排布 纳米金刚石涂层 模具 化学气相沉积 本实用新型 模具固定架 水平横向 水平纵向 穿过 镀膜设备 加热区域 竖向排布 纵向排布 热丝CVD 成品率 楔形槽 容置 衰减 圆度 保证 | ||
本实用新型涉及化学气相沉积镀膜设备技术领域,具体涉及一种热丝CVD化学气相沉积纳米金刚石涂层装置,包括有基座、设置在基座上的模具固定架以及设置在基座上方的热丝,热丝分为沿水平横向排布的第一热丝、沿水平纵向排布的第二热丝以及沿竖向排布的第三热丝,第一热丝能够穿过模具的内孔,模具固定架上设置有能够容置模具的V形槽或楔形槽;本实用新型通过水平横向排布的第一热丝、水平纵向排布的第二热丝以及纵向排布的第三热丝而形成一个稳定的加热区域,其中第一热丝能够穿过模具的内孔,这样的方式能够避免内孔两端的温度衰减,提升纳米金刚石涂层的质量,保证内孔纳米金刚石涂层的圆度均匀,提高成品率。
技术领域
本实用新型涉及化学气相沉积镀膜设备技术领域,具体涉及一种热丝CVD化学气相沉积纳米金刚石涂层装置。
背景技术
化学气相沉积金刚石薄膜具有许多接近天然金刚石的优异性能,如硬度高、弹性模量大,摩擦系数低、耐磨性强以及表面化学性能稳定等,CVD金刚石薄膜的制备不受基体形状的制约,能够直接沉积在复杂形状基体的表面,因此,它非常适合作为耐磨、减摩以及保护性涂层材料应用于具有复杂形状的硬质合金整体式模具表面,达到提高模具耐磨性、延长刀具使用寿命等目的;CVD金刚石薄膜可被分为微米金刚石薄膜和纳米金刚石薄膜;现有的热丝CVD化学气相沉积纳米金刚石涂层装置大多是手工安装热丝,并且热丝仅仅穿过拉丝模具内孔中心,其在受热时热丝容易软化歪斜,使得拉丝模具内孔受热不均匀,而且内孔两端的温度衰减较快,降低内孔边缘的纳米金刚石涂层质量,导致纳米金刚石涂层厚度不均,使得拉丝模具的内孔圆度不足,成品率较低。
实用新型内容
本实用新型为解决上述问题所采用的技术方案是提供一种热丝CVD化学气相沉积纳米金刚石涂层装置,包括有基座、设置在基座上的模具固定架以及设置在基座上方的热丝,所述热丝分为沿水平横向排布的第一热丝、沿水平纵向排布的第二热丝以及沿竖向排布的第三热丝,所述第一热丝能够穿过模具的内孔,所述模具固定架上设置有能够容置模具的V形槽或楔形槽。
作为上述方案的进一步改进,还包括有分设在模具固定左右侧、前后侧以及上下侧的热丝固定架,热丝的两端分别固定在热丝固定架上。
作为上述方案的进一步改进,所述热丝固定架包括有弹簧定位架以及压片定位架。
作为上述方案的进一步改进,所述压片定位架包括有支杆,支杆上套设有第一压片和第二压片,支杆上还螺纹连接有锁紧螺母,所述锁紧螺母分别位于第一压片及第二压片的上下表面。
作为上述方案的进一步改进,还包括有定位环,所述定位环上开设有能够容热丝卡入的限位槽。
作为上述方案的进一步改进,所述第三热丝能够穿过模具固定架。
与现有技术相比,本实用新型的有益效果是:本实用新型通过水平横向排布的第一热丝、水平纵向排布的第二热丝以及纵向排布的第三热丝而形成一个稳定的加热区域,其中第一热丝能够穿过模具的内孔,这样的方式能够避免内孔两端的温度衰减,提升纳米金刚石涂层的质量,保证内孔纳米金刚石涂层的圆度均匀,提高成品率;其次,热丝的一端通过弹簧连接,防止热丝受热软化时中部垮塌,导致模具内孔的加热温度不均匀,保证了纳米金刚石涂层的质量。
附图说明
为了更清楚地说明本实用新型实施例中的技术方案,下面将对实施例描述中所需要使用的附图作简单说明。显然,所描述的附图只是本实用新型的一部分实施例,而不是全部实施例,本领域的技术人员在不付出创造性劳动的前提下,还可以根据这些附图获得的其他设计方案和附图。
图1是本实用新型纳米金刚石涂层装置的较佳实施例的结构正视图;
图2是本实用新型纳米金刚石涂层装置的较佳实施例的结构俯视图;
图3是本实用新型另一个较佳实施例的结构正视图;
图4本实用新型另一个较佳实施例的结构俯视图;
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C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的