[实用新型]一种晶片清洗干燥机

权利要求书

1.一种晶片清洗干燥机，其特征在于，该干燥机包括：

上箱体（1），所述上箱体（1）中设置有干燥组件（11）；

中箱体（2），所述中箱体（2）中设置有用来承置晶片（5）的花篮组件（21）；以及

下箱体（3），所述上箱体（1）、中箱体（2）与下箱体（3）能够一起构成密封整体，所述下箱体（3）中设置有用来向外部排出气流的第一抽气管（31）、用来向所述下箱体（3）中供水的进水管（32）和用来向外部排出水流的第一出水管（33）。

2.根据权利要求1所述的晶片清洗干燥机，其特征在于，所述干燥机还包括：移动机构（4），能够夹持所述晶片（5）并将所述晶片（5）上下移动，使得所述晶片（5）能够在所述中箱体（2）或者下箱体（3）中变换位置。

3.根据权利要求2所述的晶片清洗干燥机，其特征在于，所述中箱体（2）上设置有移动轮，所述中箱体（2）和上箱体（1）能够整体侧移使得所述下箱体（3）的顶部敞开或者闭合。

4.根据权利要求3所述的晶片清洗干燥机，其特征在于，所述干燥机还包括：

侧箱体（6），所述侧箱体（6）连接在所述下箱体（3）的顶部一侧，所述下箱体（3）的一侧顶部设置有溢流口（61），所述溢流口（61）使得所述侧箱体（6）与所述下箱体（3）内部连通，所述侧箱体（6）上设置有第二出水管（62），所述第二出水管（62）用来将所述下箱体（3）中溢流的液体导出。

5.根据权利要求4所述的晶片清洗干燥机，其特征在于，所述侧箱体（6）上还连通有第二抽气管（63），用来抽吸所述侧箱体（6）内部的气流。

6.根据权利要求1所述的晶片清洗干燥机，其特征在于，所述下箱体（3）的底部具有预定斜角，所述第一出水管（33）设置在所述下箱体（3）的底部，所述第一抽气管（31）的高度大于所述第一出水管（33），所述进水管（32）设置在所述第一出水管（33）和第一抽气管（31）之间。

7.根据权利要求1-6中任一所述的晶片清洗干燥机，其特征在于，所述干燥组件（11）包括：轴管（111），所述轴管（111）上均匀布设有若干第一出气孔，所述轴管（111）的两端均连通有接口（112）。

8.根据权利要求7所述的晶片清洗干燥机，其特征在于，所述花篮组件（21）包括一组相对设置且带有平行凹槽的侧板（211），两两相对的所述凹槽之间能够放置所述晶片（5），所述花篮组件（21）还包括通气管道（212），所述通气管道（212）设置在所述侧板（211）的中部位置，所述通气管道（212）上开设有若干第二出气孔。