[实用新型]一种光刻设备

权利要求书

1.一种光刻设备，其特征在于，包括：主基板、气浴装置、阻尼装置、以及调焦调平装置；

所述调焦调平装置固定于所述主基板上；

所述气浴装置通过所述阻尼装置与所述主基板连接；所述气浴装置用于提供压缩气流，所述压缩气流至少覆盖所述调焦调平装置的辐射束的路径；

所述阻尼装置用于阻止所述气浴装置带动所述主基板振动。

2.根据权利要求1所述的设备，其特征在于，所述阻尼装置包括弹簧阻尼器。

3.根据权利要求1所述的设备，其特征在于，所述气浴装置包括两个吹风口；所述吹风口吹出的压缩气流的吹风方向垂直于所述辐射束的传播方向。

4.根据权利要求1所述的设备，其特征在于，所述气浴装置包括：吹风口和吸风口；

所述吹风口包括第一吹风口和第二吹风口，所述第一吹风口与所述第二吹风口位于所述调焦调平装置的两侧，且所述第一吹风口与所述第二吹风口相对设置；

所述吸风口包括第一吸风口和第二吸风口，所述第一吸风口与所述第二吸风口位于所述调焦调平装置的两侧，且所述第一吸风口与所述第二吸风口相对设置。

5.根据权利要求4所述的设备，其特征在于，所述第一吹风口至所述第一吸风口的连线与所述辐射束的传播方向具有第一夹角α；所述第二吹风口至所述第二吸风口的连线与所述辐射束的传播方向具有第二夹角β；所述第一夹角α的取值范围为：0°＜α≤90°；所述第二夹角β的取值范围为：0°＜β≤90°。

6.根据权利要求3或4所述的设备，其特征在于，还包括：传感器和控制器；

所述传感器用于检测所述气浴装置的压缩气流的压力；所述传感器与所述控制器连接；

所述控制器与所述阻尼装置连接；所述控制器用于接收所述传感器检测的压缩气流的压力，并根据所述压缩气流的压力在预设时间内的变化量，计算所述阻尼装置的阻力补偿量，发送至所述阻尼装置；

所述阻尼装置用于根据所述阻力补偿量，阻止所述气浴装置带动所述主基板振动。

7.根据权利要求6所述的设备，其特征在于，所述传感器设置于所述气浴装置的吹风口。

8.根据权利要求6所述的设备，其特征在于，还包括：风机和气流导管；

所述风机的吹风口通过所述气流导管与所述气浴装置的接口连接；所述风机用于产生压缩气流，并通过所述气流导管传输至所述气浴装置中；

所述传感器设置于所述气流导管中、所述风机的吹风口处、以及所述气浴装置的接口处的至少一处。

9.根据权利要求1～5或7～8任一项所述的设备，其特征在于，还包括：光栅尺和减振装置；

所述光栅尺包括开口结构和气浴装置安装槽；所述调焦调平装置贯穿所述开口结构固定于所述主基板上；所述气浴装置位于所述气浴装置安装槽内，且所述气浴装置与所述光栅尺不接触；所述阻尼装置贯穿所述开口结构连接所述气浴装置与所述主基板；

所述光栅尺通过所述减振装置与所述主基板连接；所述减振装置用于阻止所述光栅尺与所述主基板之间的相对振动；

所述光栅尺用于测量待光刻样品的水平位置；所述调焦调平装置用于测量所述待光刻样品与参考位置的垂直高度，以及所述待光刻样品相对于所述参考位置的水平度。

10.根据权利要求9所述的设备，其特征在于，还包括：载体平台；

所述载体平台位于所述光栅尺和所述气浴装置远离所述主基板的一侧，且所述光栅尺的工作面与所述载体平台的承载面相对设置；所述载体平台的承载面用于承载和固定所述待光刻样品；所述载体平台用于根据所述光栅尺测量的所述待光刻样品的水平位置，以及所述调焦调平装置测量的所述待光刻样品的相对于参考位置的垂直高度和水平度，调整所述待光刻样品的位置。