[实用新型]一种光刻设备

说明书

本实用新型实施例提供了一种光刻设备，该光刻设备包括主基板、气浴装置、阻尼装置和调焦调平装置，通过将调焦调平装置固定于主基板上，以及将气浴装置通过阻尼装置与主基板连接；其中，气浴装置提供的压缩气流至少覆盖调焦调平装置的辐射束的路径，并采用阻尼装置阻止气浴装置带动主基板振动，以防止气浴装置的压缩气流产生的反冲作用力带动主基板振动，从而使得主基板具有较高的稳定性，进而提高光刻设备的光刻精度。同时，阻尼装置例如可以为导热性较差的阻尼器，能够防止大量的热传导至主基板，从而保证主基板上对温度敏感的精密仪器能够稳定工作，进一步提高光刻设备的精度。

技术领域

本实用新型涉及光刻技术领域，尤其涉及一种光刻设备。

背景技术

光刻工艺是半导体器件制备工艺的关键，能够根据电路设计的要求，生成尺寸精确的特征图形。在光刻过程中图形结构和图形位置，以及制成中的污染物均会影响器件的电特性，这就要求执行光刻工艺的光刻设备具有高的精度和良好的防污染性。

目前，光刻设备中具有主基板、基础框架、调焦调平装置、光栅尺、以及对准装置等。其中，光刻设备的精密器件通常设置于主基板，且该主基板和基础框架是光刻设备框架系统的重要组成部分，该框架系统能够对其它部件的安装位置进行定位；光栅尺和调焦调平装置作为测量装置，用于测量光刻设备的其它部件或待光刻样品相对于参考零点的位置；而对准装置则可根据待光刻样品相对于参考零点的位置，对待光刻样品进行准确对位。光刻设备的温度和测量装置的测试精度对光刻设备的光刻精确度有较大的影响，由于测量装置以及光刻设备的其它精密器件均设置于主基板上，因此主基板的温度及振动稳定性是影响光刻精确度的重要因素。

实用新型内容

本实用新型实施例提供一种光刻设备，能够解决现有技术中光刻设备的光刻精度低的技术问题。

本实用新型实施例提供了一种光刻设备，包括：主基板、气浴装置、阻尼装置、以及调焦调平装置；

所述调焦调平装置固定于所述主基板上；

所述气浴装置通过所述阻尼装置与所述主基板连接；所述气浴装置用于提供压缩气流，所述压缩气流至少覆盖所述调焦调平装置的辐射束的路径；

所述阻尼装置用于阻止所述气浴装置带动所述主基板振动。

本实用新型实施例提供了一种光刻设备，该光刻设备包括主基板、气浴装置、阻尼装置和调焦调平装置，通过将调焦调平装置固定于主基板上，以及将气浴装置通过阻尼装置与主基板连接；其中，气浴装置提供的压缩气流至少覆盖调焦调平装置的辐射束的路径，并采用阻尼装置阻止气浴装置带动主基板振动，以防止气浴装置的压缩气流产生的反冲作用力带动主基板振动，从而使得主基板具有较高的稳定性，进而提高光刻设备的光刻精度。同时，阻尼装置例如可以为导热性较差的阻尼器，能够防止大量的热传导至主基板，从而保证主基板上对温度敏感的精密仪器能够稳定工作，进一步提高光刻设备的精度。

附图说明

图1是本实用新型实施例提供的一种光刻设备的截面结构示意图；

图2是本实用新型实施例提供的一种光刻设备的仰视结构示意图；

图3是本实用新型实施例提供的另一种光刻设备的截面结构示意图；

图4是本实用新型实施例提供的另一种光刻设备的仰视结构示意图；

图5是本实用新型实施例提供的又一种光刻设备的仰视结构示意图；

图6是本实用新型实施例提供的一种光刻设备的结构框图；

图7是本实用新型实施例提供的另一种光刻设备的结构框图；

图8是本实用新型实施例提供的再一种光刻设备的截面结构示意图；

图9是本实用新型实施例提供的再一种光刻设备的仰视结构示意图；