[实用新型]掩膜板异物检测设备

说明书

本实用新型提供了一种掩膜板异物检测设备，包括：承接平台，用于放置掩膜板；检测装置，设置于所述承接平台所在平面的上方，通过在掩膜板的被检测面区域移动以检测掩膜板上是否存在异物。通过设置于掩膜板的上方的检测装置检测掩膜板上的异物，检测装置在平行于被检测面区域的上方移动以检测突出掩膜板的异物，避免了将掩膜板压延痕误判为异物，提高了异物检测精度。

技术领域

本实用新型涉及半导体领域，具体涉及一种掩膜板异物检测设备。

背景技术

掩膜板在制造过程中会在表面上残留异物，如果掩膜板上残留的异物高度过高时，蒸镀的时候会形成彩斑异常，严重影响掩膜板的质量。现有技术中通常使用低角度侧光源或者环形光源进行检测，掩膜板在制造过程中不可避免地存在压延痕，而在检测过程中，由于反光等原因将这些凹凸痕误判为异物，使得异物检测精度低。

实用新型内容

因此，本实用新型要解决的技术问题在于克服现有技术中掩膜板异物检测精度低的缺陷。

为此，本实用新型提供如下技术方案：

本实用新型提供一种掩膜板异物检测设备，包括：承接平台，用于放置掩膜板；检测装置，设置于所述承接平台所在平面的上方，通过在掩膜板的被检测面区域移动以检测所述掩膜板上是否存在异物。

可选地，所述检测装置包括：至少一个第一激光测高仪，设置在第一移动装置上并可沿着所述被检测面的横坐标移动，并朝向所述掩膜板发射第一激光，检测突出于所述被检测面上的异物。

可选地，所述第一移动装置设置在高度调节装置上，通过所述高度调节装置调节所述第一激光与所述被检测面之间的距离。

可选地，所述检测装置还包括：至少一个第二激光测高仪，设置在第二移动装置上并可沿着所述被检测面的纵坐标移动，并朝向所述掩膜板发射第二激光，所述第二激光和所述第一激光相互垂直，所述检测装置通过在掩膜板的被检测面区域移动用以检测所述掩膜板上异物的位置信息。

可选地，所述第二移动装置设置在高度调节装置上，通过所述高度调节装置调节所述第二激光与所述被检测面之间的距离。

可选地，所述第一激光测高仪和所述第二激光测高仪的移动路径分别与所述掩膜板上预设的X轴和Y轴平行。

可选地，所述承接平台的上表面尺寸与所述掩膜板的尺寸相同。

可选地，所述承接平台为柱形，所述承接平台的侧壁卡入掩膜板框架内，所述掩膜板框架用于固定所述掩膜板。

可选地，还包括：摄像装置，设置于所述掩膜板的上方区域，用于对所述掩膜板上的所述异物进行拍照。

可选地，所述摄像装置为工业照相机。

本实用新型技术方案，具有如下优点：

1.本实用新型提供的掩膜板异物检测设备，包括：承接平台，用于放置掩膜板；检测装置，设置于所述承接平台所在平面的上方，通过在掩膜板的被检测面区域移动以检测所述掩膜板上是否存在异物。通过设置于掩膜板的上方的检测装置检测掩膜板上的异物，检测装置在平行于被检测面区域的上方移动以检测突出掩膜板的异物，避免了将掩膜板压延痕误判为异物，提高了异物检测精度。

2.本实用新型提供的掩膜板异物检测设备，上述检测装置包括：至少一个第一激光测高仪，设置在第一移动装置上并可沿着所述被检测面的横坐标移动，并朝向所述掩膜板发射第一激光，检测突出于所述被检测面上的异物。第一激光测高仪发射的第一激光朝向掩膜板，并且第一激光平行于掩膜板，第一激光测高仪在第一移动装置上沿被检测面的横坐标移动，在移动的过程中如检测到异物第一激光被阻断，因此便可检测出突出掩膜板的异物，检测过程简单易操作。