[实用新型]一种单晶碳化硅材料的加工设备

说明书

本实用新型涉及机械加工技术领域，提供了一种单晶碳化硅材料的加工设备，包括磨削装置和射流装置，射流装置用于对单晶碳化硅工件喷射电解液，磨削装置用于对喷射电解液后的单晶碳化硅材料进行磨削加工，使在工件表面被高速氧化后产生的氧化膜立刻被磨削去除，可增加磨削精度和磨削效率，磨削后不会对单晶碳化硅表面形成损伤层。

技术领域

本实用新型涉及机械加工技术领域，尤其涉及一种单晶碳化硅材料的加工设备。

背景技术

单晶碳化硅目前主要应用于半导体工业，采用现有的加工方法对单晶碳化硅进行加工，通过金刚石线锯加工后的单晶碳化硅表面粗糙且平整度差，需要进一步的研磨工艺。磨削过程一般使用金刚石砂轮在其表面进行磨削，但是因单晶碳化硅有超高的硬度，在进行机械磨削的过程中磨削效率低且金刚石砂轮磨损严重，而且磨削过程会对单晶碳化硅表面造成二次损伤，使得磨削加工后，其表面粗糙度和表面光洁度仍然难以达到要求，仍需要对其进行化学机械抛光，而化学机械抛光时间长且容易产生抛光液残留。因此，目前对单晶碳化硅的磨削并没有成熟的工艺，磨削后的损伤层不可避免。因此，需要提供一种新的技术方案，以解决单晶碳化硅的磨削后产生损伤层的技术问题。

实用新型内容

本实用新型旨在提供一种用于加工单晶碳化硅材料的加工设备，以解决单晶碳化硅材料磨削后产生损伤层的技术问题。

本实用新型解决上述技术问题所采用的技术方案是：

提供了一种单晶碳化硅材料的加工设备，包括机架，以及设置在机架上的磨削装置、射流装置和承载装置，其中，所述磨削装置包括驱动部和磨削部，所述驱动部驱动所述磨削部旋转，所述磨削部由硬度低于单晶碳化硅的材料构成；所述射流装置包括喷嘴和电解液储存装置，所述喷嘴连通于所述电解液储存装置；所述承载装置包括用于固定单晶碳化硅材料的固定装置。

作为上述技术方案的改进，还包括转台，所述承载装置设置在所述转台上，所述转台带动所述承载装置旋转。

作为上述技术方案的进一步改进，所述承载装置包括固定块及用于夹紧所述固定块的夹具，所述固定块上设置有用于固定单晶碳化硅材料的安装部。

作为上述技术方案的进一步改进，还包括喷嘴调节装置，所述喷嘴调节装置包括第一活动载台和第二活动载台，所述喷嘴设置在所述第一活动载台上，所述第一活动载台可滑动地连接于所述第二活动载台上，所述第二活动载台可滑动地连接于所述机架上。

作为上述技术方案的进一步改进，还包括电解液循环装置，所述电解液循环装置包括循环管路，所述喷嘴通过所述循环管路与所述电解液储存装置连通，所述循环管路上设置有送液装置。

作为上述技术方案的进一步改进，所述电解液循环装置还包括过滤装置，过滤装置连通于所述循环管路上。

作为上述技术方案的进一步改进，还包括脉冲电源装置，所述脉冲电源装置连接所述喷嘴和待加工的单晶碳化硅材料。

作为上述技术方案的进一步改进，所述磨削部为砂轮或者磨头。

作为上述技术方案的进一步改进，所述磨削部由氧化铝或者二氧化铈材料构成。

本实用新型的有益效果是：

本实用新型用于加工单晶碳化硅材料的加工设备，包括磨削装置和喷射装置，喷射装置用于对单晶碳化硅工件喷射电解液，磨削装置用于对喷射电解液后的单晶碳化硅材料进行磨削加工，使在工件表面被高速氧化后产生的氧化膜立刻被磨削去除，可增加磨削精度和磨削效率，磨削后不会对单晶碳化硅表面形成损伤层。

附图说明

为了更清楚地说明本实用新型实施例中的技术方案，下面将对实施例描述中所需要使用的附图做简单说明：

图1为本实用新型刀具一个实施例的结构示意图；