[实用新型]光电装置

说明书

本文公开一种光电装置，所述光电装置包括：肋形波导，所述肋形波导包括：脊部分，所述脊部分包括对温度敏感的光学有源区，以及平板部分，所述平板部分邻近所述脊部分定位；所述装置还包括加热器，所述加热器安置在所述平板部分的顶部上，其中所述加热器的最靠近脊部分的部分距离所述脊部分至少2μm。所述装置还可以具有设置有底部包覆层的加热器，并且还可以包括各种热绝缘增强腔。

技术领域

本发明涉及光电子学中的加热器，且具体地，涉及电吸收调制器中的加热器。

背景技术

光电装置，尤其是电吸收调制器(EAM)可以是对温度敏感的。例如，当装置的温度变化时，EAM的工作波长可以明显变化。其背后的物理机制是形成EAM的材料的带边波长可以具有温度依赖性。

例如，当以粗波分复用(CWDM)模式操作时，此温度依赖性可能有益。然而，在这种操作模式中，必须精确地控制装置的温度。

在传统装置中，加热器(相对于衬底)紧邻EAM放置或放置在EAM的顶部。在此类装置中，在EAM上可能形成严重的温度梯度，这可能显著降低EAM的性能。

实用新型内容

一般来说，本公开涉及以提供更均匀加热的方式在光电装置中提供加热器，并且涉及加热器的隔热以便有效地增加。在一个方面，本发明涉及提供腔或沟槽，以便将加热器和光学有源区隔热。

在第一方面，本发明提供一种光电装置，所述光电装置包括：

肋形波导，所述肋形波导包括：

脊部分，所述脊部分包括对温度敏感的光学有源区，

以及平板部分，所述平板部分邻近所述脊部分定位；

所述装置还包括加热器，所述加热器安置在所述平板部分的顶部上，其中所述加热器的最靠近脊部分的部分距离所述脊部分至少2 μm。

通过将加热器放置在距离脊部分至少2 μm的位置，可以在包括对温度敏感的光学有源区的波导的脊部分内建立均匀得多的温度。在一些实例中，加热器的最靠近脊部分的部分距离脊部分至少3 μm。

在第二方面，本发明提供一种光电装置，所述光电装置包括：

肋形波导，所述肋形波导包括：

脊部分，所述脊部分包括对温度敏感的光学有源区，

以及平板部分，所述平板部分邻近所述脊部分定位；

所述装置还包括加热器，所述加热器安置在位于所述平板部分下方的外延结晶包覆层中。

通过在外延结晶包覆层内提供加热器，可以获得更好的温度均匀性。此外，可以在提供加热器的同时将装置占地面积的增加降至最小。加热器也不使用装置的暴露表面区域，并且可能不遭受电迁移或自焦耳加热(这两者都是加热器中的失效机制)。

第一和第二方面的加热器可以允许包括在肋形波导中的电吸收调制器在一定范围的波长上操作。例如，当光学有源区提供电吸收调制器时，所述装置可以从至少1450 nm至不超过1610 nm，并且优选地至少1550 nm至不超过1610 nm的波长操作。这可以允许使用粗波分复用方案。光学有源区可以由Si_xGe_1-x形成，其中0.005 ≤ x ≤ 0.01，并且优选地，其中0.005 < x < 0.01。

在第三方面，本发明提供一种光电装置，所述光电装置包括：

肋形波导，所述肋形波导包括：

脊部分，所述脊部分包括对温度敏感的光学有源区，

以及平板部分，所述平板部分邻近所述脊部分定位；

所述装置还包括：