[实用新型]一种磁芯电极镀膜装置及流水线

说明书

本实用新型一种磁芯电极镀膜装置，包括立式基片架、侧式阴极溅射装置。立式基片架包括框架，设置在框架上侧的磁铁，设置在框架下侧的导轨，从上到下设置在框架前侧两边的多对定位柱，设置在每对定位柱上的磁芯治具，设置在框架前侧四角的螺钉孔，设置在框架前侧两边的压条，压条通过两端螺丝将多个磁芯治具固定在框架前侧，侧式阴极溅射装置设于镀膜室的一侧。磁芯治具包括掩膜板、多个磁芯、多个弹片、磁芯架，掩膜板上设有多个与磁芯顶部结构匹配的日字型通孔，磁芯架上设有多个容纳磁芯和弹片装入的凹孔，掩膜板用螺丝固定在磁芯架上。本方案采用立式结构，可流水线式连续生产，从而大大提高了生产效率。

技术领域

本实用新型涉及磁芯加工领域，尤其涉及一种磁芯电极镀膜装置及流水线。

背景技术

现有的磁芯电极镀膜设备一般分为两类：单体立式设备和连续式卧式镀膜设备。

单体立式设备有单独腔体，连接有真空泵组实现抽真空，腔体侧壁安装靶材，每次镀膜时，将样品挂上基片架，封闭腔体，抽真空到指定要求后，将基片架移动到镀膜区域，开始镀膜，镀膜完成后，停止抽真空，向设备内放入大气，打开腔体，移出基片架，取下样品，重新挂样品镀膜。这种单体立式设备存在无法实现流水线式生产，生产效率低的缺陷。

连续式卧式镀膜设备主要包括上样平台、真空腔体、出样平台，其中镀膜室配备有多弧阴极、磁控阴极分别实现对样品连续镀不同膜系结构，阴极位于镀膜室的上方，镀膜时朝下垂直溅射，基片架水平移动，镀膜面水平朝上。这种连续式卧式镀膜设备存在镀膜时腔壁上的粉尘会掉落到基片上，影响镀膜质量的缺陷。

为了克服上述缺陷，我们发明了一种磁芯电极镀膜装置及流水线。

实用新型内容

本实用新型的发明目的在于解决现有的单体立式设备存在无法实现流水线式生产、生产效率低，连续式卧式镀膜设备存在镀膜时腔壁上的粉尘会掉落到基片上，影响镀膜质量问题。其具体解决方案如下：

一种磁芯电极镀膜装置，包括立式基片架、侧式阴极溅射装置。所述立式基片架包括框架，设置在所述框架上侧的磁铁，设置在所述框架下侧的导轨，从上到下设置在所述框架前侧两边的多对定位柱，设置在每对定位柱上的磁芯治具，设置在所述框架前侧四角的螺钉孔，设置在所述框架前侧两边的压条，所述压条通过两端螺丝将多个所述磁芯治具固定在所述框架前侧，所述侧式阴极溅射装置设于镀膜室的一侧。

进一步地，所述磁芯治具包括掩膜板、多个磁芯、多个弹片、磁芯架，所述掩膜板上设有多个与所述磁芯顶部结构匹配的日字型通孔，所述磁芯架上设有多个容纳所述磁芯和弹片装入的凹孔，所述日字型通孔和所述凹孔的孔之间分别设有相互匹配的螺丝孔，依次装入所述弹片、磁芯到所述磁芯架的凹孔中，再将所述掩膜板用螺丝固定在所述磁芯架上，所述掩膜板紧贴所述磁芯上表面，所述掩膜板和磁芯架的两端设有定位孔。

进一步地，所述磁芯和弹片的上下面呈圆形。所述掩膜板和磁芯架为金属材料制成。所述框架为中间挖空的矩形板。所述框架为金属板制成。所述磁铁嵌入流水线体顶部的马鞍形磁铁中，所述导轨嵌入流水线体底部的凹形滑轮上。

一种磁芯电极镀膜流水线，包括上述一种磁芯电极镀膜装置，还包括进样室、进行样过渡室、镀膜室、出样过渡室、出样室，所述立式基片架通过所述流水线体，依次经过所述进样室、进样过渡室、镀膜室、出样过渡室、出样室进行流水线式镀膜生产。

进一步地，所述进样室对外设有第一阀门，所述进样室与进样过渡室之间设有第二阀门，所述进样过渡室与镀膜室之间设有第三阀门，所述镀膜室与出样过渡室之间设有第四阀门，所述出样过渡室与出样室之间设有第五阀门，所述出样室对外设有第六阀门。

进一步地，所述立式基片架的前侧正对所述侧式阴极溅射装置。

综上所述，采用本实用新型的技术方案具有以下有益效果：