[实用新型]一种硅片原料的酸洗装置

说明书

本实用新型公开了一种硅片原料的酸洗装置，包括清洗缸，所述清洗缸的底端通过轴承转动安装有转动圈，转动圈穿设有转动杆，所述转动杆的一端延伸至清洗缸内，所述转动杆的一端固定连接有第一放置篮，第一放置篮的底部为板式结构，第一放置篮的内壁两侧均固定连接有竖直排布的放置垫板，所述第一放置篮的一侧设有第二放置篮，第一放置篮和第二放置篮一起组成圆柱形结构，且第一放置篮和第二放置篮靠近放置垫板的两侧外壁均焊接有两个连接块，连接块均开设有十字形的通孔，第二放置篮的连接块的一侧均固定安装有保护壳，保护壳活动穿设有拉杆。本实用新型设计结构合理，操作简单，使用方便，能够方便清洗，而且清洗效果更好。

技术领域

本实用新型涉及硅片生产技术领域，尤其涉及一种硅片原料的酸洗装置。

背景技术

半导体器件生产中硅片须经严格清洗。微量污染也会导致器件失效。清洗的目的在于清除表面污染杂质，包括有机物和无机物。这些杂质有的以原子状态或离子状态，有的以薄膜形式或颗粒形式存在于硅片表面。有机污染包括光刻胶、有机溶剂残留物、合成蜡和人接触器件、工具、器皿带来的油脂或纤维。无机污染包括重金属金、铜、铁、铬等，严重影响少数载流子寿命和表面电导；碱金属如钠等，引起严重漏电；颗粒污染包括硅渣、尘埃、细菌、微生物、有机胶体纤维等，会导致各种缺陷。现有的清洗装置只要将硅片放在酸溶液中，进行静置并且发生化学反应，由于静置反应效率慢，而且不能很好让污物从硅片表面脱落，如果采用刷洗又容易造成表面刮花影响质量。

实用新型内容

本实用新型的目的是为了解决现有技术中硅片酸洗不充分，而且容易刮花存在的缺点，而提出的一种硅片原料的酸洗装置。

为了实现上述目的，本实用新型采用了如下技术方案：

一种硅片原料的酸洗装置，包括清洗缸，所述清洗缸的底端通过轴承转动安装有转动圈，转动圈穿设有转动杆，所述转动杆的一端延伸至清洗缸内，所述转动杆的一端固定连接有第一放置篮，第一放置篮的底部为板式结构，第一放置篮的内壁两侧均固定连接有竖直排布的放置垫板，所述第一放置篮的一侧设有第二放置篮，第一放置篮和第二放置篮一起组成圆柱形结构，且第一放置篮和第二放置篮靠近放置垫板的两侧外壁均焊接有两个连接块，连接块均开设有十字形的通孔，第二放置篮的连接块的一侧均固定安装有保护壳，保护壳活动穿设有拉杆，拉杆的杆体套设有弹簧，拉杆的杆体焊接有挡块，且挡块和弹簧均位于保护壳内，弹簧位于挡块和保护壳的一端内壁之间，拉杆的一端穿过第二放置篮的连接块延伸到另一侧，且拉杆的一端固定连接有卡杆，且卡杆的一端还穿过第一放置篮的连接块的通孔。

优选的，所述清洗缸的底端外壁焊接有四个支撑杆，四个支撑杆的一端共同固定安装有座板，清洗缸的底端外壁和座板的顶端之间通过轴承转动安装有两个双向螺纹杆，双向螺纹杆位于四个支撑杆之间，两个双向螺纹杆之间通过螺纹活动安装有支撑板。

优选的，所述转动圈的内孔为矩形结构，转动杆的杆体为四棱柱结构，转动杆与转动圈的内孔相匹配，转动杆的另一端通过轴承与支撑板的顶端转动安装，支撑板的底端固定安装有第一电机，第一电机的输出轴与转动杆的另一端固定连接。

优选的，所述转动圈的底端外壁固定安装有第二电机，第二电机的输出轴固定安装有第一齿轮，其中一个双向螺纹杆的杆体固定安装有第二齿轮，第一齿轮与第二齿轮啮合，两个双向螺纹杆的杆体均固定安装有带轮，带轮之间通过皮带连接，皮带位于第一电机的下方。

本实用新型的有益效果是：通过设计的方便安装拆卸的第一放置篮和第二放置篮，能够将多个硅片分别插进两个放置垫板之间的间隙内，从而硅片一层层放置，使得硅片不相互碰撞，在酸洗时第一放置篮和第二放置篮组成的圆柱形结构可以旋转从而在酸洗时更充分，设计的双向螺纹杆能够驱动转动杆上移，从而第一放置篮和第二放置篮推出清洗缸，方便取出清洗好的硅片；本设计结构合理，操作简单，使用方便，能够方便清洗，而且清洗效果更好。

附图说明