[实用新型]一种可单片使用减反射低辐射玻璃

权利要求书

1.一种可单片使用减反射低辐射玻璃，其特征在于，所述可单片使用减反射低辐射玻璃依次包括：玻璃原片、多个电介质层、红外隔热层、多个保护层；其中，相邻两电介质层为高折射率材料和低折射率材料互搭，起到减反射作用，所述红外隔热层为氧化铟锡，起到低辐射作用。

2.如权利要求1所述的可单片使用减反射低辐射玻璃，其特征在于，所述可单片使用减反射低辐射玻璃依次包括：玻璃原片、第一电介质层、第二电介质层、第三电介质层、第四电介质层、第五电介质层、第六电介质层、第七电介质层、红外隔热层、第一保护层、第二保护层。

3.如权利要求2所述的可单片使用减反射低辐射玻璃，其特征在于，所述第一电介质层为高折射率材料、所述第二电介质层为低折射率材料、所述第三电介质层为高折射率材料、所述第四电介质层为低折射率材料、所述第五电介质层为高折射率材料、所述第六电介质层为低折射率材料、所述第七电介质层为高折射率材料。

4.如权利要求3所述的可单片使用减反射低辐射玻璃，其特征在于，

所述第一电介质层为氧化钛、氧化铌、氧化锆或氧化铌钛的其中一种，其厚度为13nm～19nm；

所述第二电介质层为氧化硼硅、氧化硅铝的其中一种，其厚度为25nm～35nm；

所述第三电介质层为氧化钛、氧化铌、氧化锆或氧化铌钛的其中一种，其厚度为120nm～135nm；

所述第四电介质层为氧化硼硅、氧化硅铝的其中一种，其厚度为10nm～20nm；

所述第五电介质层为氧化钛、氧化铌、氧化锆或氧化铌钛的其中一种，其厚度为50nm～60nm；

所述第六电介质层为氧化硼硅、氧化硅铝的其中一种，其厚度为0nm～6nm；

所述第七电介质层为氧化钛、氧化铌、氧化锆或氧化铌钛的其中一种，其厚度为50nm～70nm；

所述红外隔热层的厚度为15nm～60nm；

所述第一保护层为氧化硼硅、氧化硅铝的其中一种，其厚度为60nm～80nm；

所述第二保护层为氮化硅铝，其厚度为3nm～10nm。

5.如权利要求4所述的可单片使用减反射低辐射玻璃，其特征在于，

所述第一电介质层的厚度为15nm～17nm；

所述第二电介质层的厚度为29nm～32nm；

所述第三电介质层的厚度为125nm～130nm；

所述第四电介质层的厚度为13nm～17nm；

所述第五电介质层的厚度为53nm～57nm；

所述第六电介质层的厚度为2nm～4nm；

所述第七电介质层的厚度为55nm～65nm；

所述红外隔热层的厚度为25nm～45nm；

所述第一保护层的厚度为65nm～75nm；

所述第二保护层的厚度为4nm～6nm。

6.如权利要求1至5任一项所述的可单片使用减反射低辐射玻璃，其特征在于，所述可单片使用减反射低辐射玻璃的玻面和膜面的可见光反射率均＜5％，所述可单片使用减反射低辐射玻璃的可见光透过率相对于玻璃原片增透＞1％。

7.如权利要求1至5任一项所述的可单片使用减反射低辐射玻璃，其特征在于，所述可单片使用减反射低辐射玻璃的玻面和膜面的颜色均为中性色，玻面和膜面的颜色值均为-2.3≤a*≤1、-4≤b*≤1.5。

8.如权利要求1至5任一项所述的可单片使用减反射低辐射玻璃，其特征在于，所述可单片使用减反射低辐射玻璃的U值≤3.6W/m²·K。

9.如权利要求1至5任一项所述的可单片使用减反射低辐射玻璃，其特征在于，所述可单片使用减反射低辐射玻璃在波长300nm处的紫外线透过率≤5％。