[实用新型]一种可单片使用减反射低辐射玻璃

说明书

本实用新型公开一种可单片使用减反射低辐射玻璃，可单片使用减反射低辐射玻璃依次包括：玻璃原片、多个电介质层、红外隔热层、多个保护层；其中，相邻两电介质层为高折射率材料和低折射率材料互搭，起到减反射作用，所述红外隔热层为氧化铟锡，起到低辐射作用。同时，由于氧化铟锡材料不会被空气氧化，所以即便该玻璃暴露在空气中，直接单片使用，其膜层也不会被氧化。

技术领域

本实用新型涉及节能玻璃领域，特别涉及一种可单片使用减反射低辐射玻璃。

背景技术

传统离线低辐射玻璃由于其膜层含有Ag层，Ag层容易被氧化，膜层不能直接暴露在空气中，导致传统离线低辐射玻璃不可单片使用，必须和另外一块玻璃板配合，膜面朝内形成中空玻璃才能够使用，这种方式大大妨碍了传统离线低辐射玻璃的应用。此外，传统的减反射玻璃无法阻隔红外光线，起不到降低辐射的作用。

实用新型内容

本实用新型的主要目的是提出一种可单片使用减反射低辐射玻璃，旨在提供一种新的特种玻璃，在具有减反射、低辐射性能的同时，还能够单片使用。

为实现上述目的，本实用新型提出可单片使用减反射低辐射玻璃，所述可单片使用减反射低辐射玻璃依次包括：玻璃原片、多个电介质层、红外隔热层、多个保护层；其中，相邻两电介质层为高折射率材料和低折射率材料互搭，起到减反射作用，所述红外隔热层为氧化铟锡，起到低辐射作用。

可选地，所述可单片使用减反射低辐射玻璃依次包括：玻璃原片、第一电介质层、第二电介质层、第三电介质层、第四电介质层、第五电介质层、第六电介质层、第七电介质层、红外隔热层、第一保护层、第二保护层。

可选地，所述第一电介质层为高折射率材料、所述第二电介质层为低折射率材料、所述第三电介质层为高折射率材料、所述第四电介质层为低折射率材料、所述第五电介质层为高折射率材料、所述第六电介质层为低折射率材料、所述第七电介质层为高折射率材料。

可选地，所述第一电介质层为氧化钛、氧化铌、氧化锆或氧化铌钛的其中一种，其厚度为13nm～19nm；

所述第二电介质层为氧化硼硅、氧化硅铝的其中一种，其厚度为25nm～35nm；

所述第三电介质层为氧化钛、氧化铌、氧化锆或氧化铌钛的其中一种，其厚度为120nm～135nm；

所述第四电介质层为氧化硼硅、氧化硅铝的其中一种，其厚度为10nm～20nm；

所述第五电介质层为氧化钛、氧化铌、氧化锆或氧化铌钛的其中一种，其厚度为50nm～60nm；

所述第六电介质层为氧化硼硅、氧化硅铝的其中一种，其厚度为0nm～6nm；

所述第七电介质层为氧化钛、氧化铌、氧化锆或氧化铌钛的其中一种，其厚度为50nm～70nm；

所述红外隔热层的厚度为15nm～60nm；

所述第一保护层为氧化硼硅、氧化硅铝的其中一种，其厚度为60nm～80nm；

所述第二保护层为氮化硅铝，其厚度为3nm～10nm。

可选地，所述第一电介质层的厚度为15nm～17nm；

所述第二电介质层的厚度为29nm～32nm；

所述第三电介质层的厚度为125nm～130nm；

所述第四电介质层的厚度为13nm～17nm；

所述第五电介质层的厚度为53nm～57nm；

所述第六电介质层的厚度为2nm～4nm；

所述第七电介质层的厚度为55nm～65nm；