[实用新型]掩模台、掩模台系统和曝光装置

说明书

一种掩模台、掩模台系统和曝光装置，其中所述掩模台包括：基座、平衡块、动台，其中，所述动台适于放置掩模板；所述平衡块位于基座上，所述平衡块适于使所述动台相对于平衡块无接触移动；所述平衡块的侧壁具有噪声震动检测单元，所述噪声震动检测单元适于检测平衡块的震动或噪音，获得电信号，因而通过检测平衡块产生的震动或噪音，可以判断平衡块是否存在异常，进而可以判断线圈阵列和/或平衡块上的永磁体阵列是否存在破损或松动，或者是否达到使用寿命。

技术领域

本实用新型涉及半导体制作领域，尤其涉及一种掩模台、掩模台系统和曝光装置。

背景技术

光刻工艺直接决定了大规模集成电路的特征尺寸，是大规模集成电路制造的关键工艺。光刻机是光刻工艺中最重要设备之一。通过光刻机，将掩模板上的掩模图案成像在涂覆有光刻胶的硅片上。目前的光刻机主要包括两类，一类是步进式光刻机，掩模图案一次曝光成像在硅片的一个曝光区域，随后硅片相对于掩模移动，将下一个曝光区域移动到掩模图案和投影物镜下方，再一次将掩模图案曝光在硅片的另一曝光区域，重复这一过程直到硅片上所有曝光区域都拥有与掩模图案相对应的图形。另一类是步进扫描光刻机，在上述过程中，掩模图案不是一次曝光成像，而是通过投影光场的扫描移动成像，在掩模图案成像过程中，掩模板与硅片同时相对于投影系统和投影光束移动，完成硅片曝光。

现有的光刻机一般包括：晶圆载物台，适于装载晶圆；掩模台系统，包括掩模台，位于晶圆载物台上方，适于装载掩模板；光源，适于提供曝光光线，照射掩模板；光学投影单元，位于掩模板和晶圆载物台之间，适于将透过掩模板的光投射到晶圆上。

现有的掩模台系统通常采用磁悬浮的结构，以使得掩模台具有质量轻、扰动低等特点，现有这样的掩模台系统在运转时无法有效的监控或检测磁悬浮结构的运转状态，只有当掩模台系统存在明显的故障时，才会出现报警信息，以停止掩模台系统的运转，而这样的明显的故障往往需要较长的维护时间才能使得掩模台系统重新正常运转，使得设备的利用率极大的降低。

实用新型内容

本实用新型所要解决的技术问题是在怎样实现对平衡块的运转状态以及永磁体阵列的状态的实时有效的监控，减少复机时间，节省成本。

本实用新型提供了一种掩模台，包括：基座、平衡块、动台，其中，

所述动台适于放置掩模板；所述平衡块位于基座上，所述平衡块适于使所述动台相对于平衡块无接触移动；所述平衡块的侧壁具有噪声震动检测单元，所述噪声震动检测单元适于检测平衡块的震动或噪音，获得电信号。

可选的，所述噪声震动检测单元至少包括噪声震动传感器，所述噪声震动传感器安装在平衡块的侧壁上，所述噪声震动传感器感应平衡块产生的震动或噪音，产生电信号。

可选的，所述平衡块的侧壁上安装的噪声震动传感器的数量至少为1个。

可选的，所述噪声震动传感器的数量大于等于2个时，噪声震动传感器分别位于平衡块的不同侧壁上或者一个侧壁的不同位置上。

可选的，所述平衡块的侧壁中就具有凹槽，所述噪声震动传感器位于凹槽中，且所述噪声震动传感器与凹槽的底部和四周侧壁接触。

可选的，所述平衡块中具有密闭的空腔，所述噪声震动传感位于密闭的空腔中。

可选的，所述平衡块数量为两块，所述动台位于平衡块之间，所述动台的两侧具有线圈阵列，所述平衡块上相应的具有永磁体阵列。

可选的，每一块平衡块上均具有噪声震动检测单元。

可选的，所述动台包括粗动台和微动台。

本实用新型还提供了一种掩模台系统，包括：