[实用新型]一种粉体表面功能化的旋转电极金属制粉的系统

权利要求书

1.一种粉体表面功能化的旋转电极金属制粉的系统，所述系统包括：制粉腔室、位于所述制粉腔室一端的旋转电极、位于所述制粉腔室另一端的等离子体炬、位于所述制粉腔室底部的粉体收集罐，所述制粉腔室和所述粉体收集罐通过粉体输运管道相连，所述旋转电极和等离子体炬同轴设置并且两者的工作面均位于所述制粉腔室内，其特征在于，还包括物理气相沉积装置，所述物理气相沉积装置包括靶材及所述靶材表面形成粒子沉积的装置，所述物理气相沉积装置设置在所述制粉腔室的外壁并与所述制粉腔室密封连接，所述靶材的沉积粒子发射或形成面位于所述制粉腔室内。

2.根据权利要求1所述的粉体表面功能化的旋转电极金属制粉的系统，其特征在于，所述靶材表面形成粒子沉积的装置为蒸发镀、溅射镀或离子镀装置。

3.根据权利要求1所述的粉体表面功能化的旋转电极金属制粉的系统，其特征在于，所述靶材设置在安装有所述旋转电极的所述制粉腔室端面的器壁和/或安装有所述等离子体炬的所述制粉腔室端面的器壁。

4.根据权利要求1、2或3所述的粉体表面功能化的旋转电极金属制粉的系统，其特征在于，所述靶材设置在所述制粉腔室端面的中心点到所述制粉腔室的侧壁之间。

5.根据权利要求1、2或3所述的粉体表面功能化的旋转电极金属制粉的系统，其特征在于，所述靶材设置在所述制粉腔室端面的中心点到所述制粉腔室侧壁之间的中间位置。

6.根据权利要求1、2或3所述的粉体表面功能化的旋转电极金属制粉的系统，其特征在于，所述靶材为矩形或圆弧形。

7.根据权利要求1、2或3所述的粉体表面功能化的旋转电极金属制粉的系统，其特征在于，所述靶材为完全围绕所述制粉腔室端面中心点的1个圆弧形靶材、2个半圆弧形靶材或4个矩形靶材。

8.根据权利要求1所述的粉体表面功能化的旋转电极金属制粉的系统，其特征在于，所述靶材为固态金属、氧化物、氮化物或碳化物。