[实用新型]一种用于超高真空腔体的激光除垢装置

说明书

本实用新型公开了一种用于超高真空腔体的激光除垢装置，包括工作台和基座，工作台内部设有激光器、除尘装置和驱动电机，其上端面设有控制器，基座下端面设有滚轮，驱动电机与滚轮连接，还包括导光管、导尘管和除尘罩，除尘罩顶部设有通孔和连接管，除尘装置包括储尘室和真空泵，储尘室顶部设有灰尘进口和气孔，气孔内设有过滤膜，导尘管贯穿工作台的侧壁且一端与除尘罩的连接管连通另一端与储尘室的灰尘进口连通，导光管贯穿工作台的侧壁和除尘罩的通孔，且导光管与除尘罩的通孔密封连接，导光管一端与激光器连接另一端设有除垢头，除垢头位于除尘罩的内部，激光器、真空泵和驱动电机均与控制器连接。该装置具有节能环保，工作效率高的特点。

技术领域

本实用新型涉及激光除垢技术领域，具体涉及一种用于超高真空腔体的激光除垢装置。

背景技术

在半导体系统设备中，为满足半导体制造工艺所需要的特定压强条件，该系统必须满足良好的密封性。超高真空腔体是半导体系统设备中一个很重要的部件，它的密封性良好与否对系统是否满足所需条件起关键性作用。超高真空腔体表面的粗糙度、洁净度是影响真空腔体密封性的关键指标，而超高真空腔体的表面研磨工艺与真空腔体表面性能直接相关。

目前，超高真空腔体的表面研磨方法主要还是以电解抛光法为主，为了保证电解抛光工序的工作效率，需要在电解抛光工序前对超高真空腔体表面进行清洁(包括清除油渍、粉尘和锈迹等)。传统的超高真空腔体表面清洁多采用化学反应与水洗相结合的方法，一方面化学反应对超高真空腔体表面产生伤害且易对环境造成影响，另一方面水洗造成大量水资源的浪费。激光除垢是最近几年发展起来的一种新颖除垢法，具有清洁效果好，安全可靠，成本低、耗电少，使用移动方便灵活等优点。但现行的激光除垢装置除锈过程中易造成灰尘的扬起和灰尘的二次沉积，一方面造成工件表面除尘效果差，另一方面造成工作车间环境中粉尘浓度较大，对工人的身体健康构成威胁。

实用新型内容

本实用新型的目的在于，克服现有技术中存在的缺陷，提供一种用于超高真空腔体的激光除垢装置，该装置利用真空负压原理，将除垢头清理后的灰尘及时进行处理，避免了传统化学反应与水洗结合造成的资源浪费以及对环境的危害，且该装置具有清洁效果好、安全可靠、成本低、耗电少和使用灵活的特点。

为实现上述目的，本实用新型的技术方案是设计一种用于超高真空腔体的激光除垢装置，包括工作台和基座，在所述工作台的内部设有激光器、除尘装置和驱动电机，在所述工作台的上端面设有控制器，在所述基座的下端面设有滚轮，所述驱动电机的输出轴通过传输装置与滚轮的轮轴连接，还包括导光管、导尘管和除尘罩，所述除尘罩顶部设有通孔和设置于除尘罩顶部外侧且与除尘罩内部连通的连接管，所述除尘装置包括储尘室和真空泵，所述储尘室顶部设有灰尘进口和气孔，在所述气孔内设有过滤膜，所述导尘管贯穿工作台的侧壁且一端与除尘罩的连接管连通另一端与储尘室的灰尘进口连通，所述导光管贯穿工作台的侧壁和所述除尘罩的通孔，且导光管与所述除尘罩的通孔密封连接，导光管一端与激光器连接另一端设有除垢头，且除垢头位于除尘罩的内部，所述激光器、真空泵和驱动电机均与控制器连接。

该装置的基座设有滚轮，使该装置具有移动灵活的特点，便于该装置应用于半导体腔体等大工件的表面清洁；除垢头位于除尘罩的内部，便于除垢头进行工件表面清理时灰尘的及时处理，有效避免了工件表面除垢时向车间释放的粉尘量，消除了粉尘污染对工人身体健康的威胁。

为了满足该装置对不同高度工件表面清洁工作的需求，优选的技术方案是，在所述基座和工作台之间还设有气缸升降装置，所述气缸升降装置与控制器连接。

为了便于控制该装置除垢时的工作效率，进一步优选的技术方案还有，在所述控制器内还设有第一无线通讯模块，还包括设置于除垢头底部的探测装置，该探测装置包括锈斑探测器、与锈斑探测器连接的处理器以及与处理器连接的第二无线通讯模块。其中锈斑探测器可以将锈斑的厚度及时的反馈给控制器，便于控制器及时根据锈斑的信息调整激光器的功率和驱动电机的转动速度相匹配，以达到利用更低的电能损耗，实现更高的工作效率。