[实用新型]有机发光二极管的基板烘烤装置及烘烤设备

权利要求书

1.一种有机发光二极管的基板烘烤装置，包括热板、支撑机构及升降机构，所述支撑机构设置在所述热板的上方，所述支撑机构具有用于支撑目标基板的支撑面，所述升降机构连接所述支撑机构且用于控制所述支撑机构相对所述热板升降，其特征在于，所述基板烘烤装置还包括盖板、第一驱动机构和包围机构，所述盖板位于所述支撑机构上方，所述第一驱动机构用于驱动所述盖板相对所述热板升降，所述包围机构被配置为当所述支撑机构下降时，所述包围机构的底边与所述支撑机构的支撑面齐平。

2.根据权利要求1所述基板烘烤装置，其特征在于，所述包围机构被配置为当所述包围机构抵接所述热板的位置时，所述热板、所述包围机构及所述盖板共同形成容纳所述目标基板的腔室。

3.根据权利要求1所述基板烘烤装置，其特征在于，所述包围机构为设置在所述盖板四周的板体。

4.根据权利要求3所述基板烘烤装置，其特征在于，所述盖板为矩形，所述包围机构为设置在所述盖板周边的板体。

5.根据权利要求1所述基板烘烤装置，其特征在于，所述包围机构固定安装在所述盖板上。

6.根据权利要求1所述基板烘烤装置，其特征在于，所述基板烘烤装置还包括第二驱动机构，所述盖板设置有供所述包围机构通过的通道，所述包围机构与所述第二驱动机构连接，所述第二驱动机构用于驱动所述包围机构相对所述热板升降。

7.根据权利要求1所述基板烘烤装置，其特征在于，所述热板设有与所述包围机构相匹配的凹槽，且在所述包围机构被配置为抵接所述热板的位置时，所述包围机构抵接所述凹槽。

8.一种有机发光二极管烘烤设备，其特征在于，烘烤设备包括基板烘烤装置，监测装置和控制装置；

所述基板烘烤装置包括热板、支撑机构及升降机构，所述支撑机构设置在所述热板的上方用于支撑目标基板，所述升降机构连接所述支撑机构且用于控制所述支撑机构相对所述热板升降，所述基板烘烤装置还包括盖板、第一驱动机构和包围机构，所述盖板位于所述支撑机构上方，所述第一驱动机构用于驱动所述盖板相对所述热板升降；

所述监测装置包括摄像装置和信息传输模块，所述摄像装置被配置为，当所述支撑机构下降时，用于监测所述包围机构和目标基板的相对位置，并将所述包围机构和目标基板的相对位置信息通过所述信息传输模块传输给所述控制装置；

所述控制装置被配置为，当所述支撑机构下降时，用于控制所述包围机构的底边与所述支撑机构的支撑面齐平。

9.根据权利要求8所述有机发光二极管烘烤设备，其特征在于，所述包围机构固定安装在所述盖板上，所述控制装置被配置为，当所述支撑机构下降时，用于控制所述第一驱动机构使所述包围机构的底边与所述支撑机构的支撑面齐平。

10.根据权利要求8所述有机发光二极管烘烤设备，其特征在于，所述基板烘烤装置还包括第二驱动机构，所述盖板设置有供所述包围机构通过的通道，所述包围机构与所述第二驱动机构连接，所述第二驱动机构用于驱动所述包围机构相对所述热板升降，所述控制装置与所述第二驱动机构连接，所述控制装置被配置为，当所述支撑机构下降时，用于控制所述第二驱动机构使所述包围机构的底边与所述支撑机构的支撑面齐平。