[实用新型]有机发光二极管的基板烘烤装置及烘烤设备

说明书

一种有机发光二极管的基板烘烤装置及有机发光二极管烘烤设备，其中有机发光二极管的基板烘烤装置包括热板、支撑机构及升降机构，所述支撑机构设置在所述热板的上方且用于支撑目标基板，所述升降机构连接所述支撑机构且用于控制所述支撑机构相对所述热板升降，所述基板烘烤装置还包括盖板、第一驱动机构和包围机构，所述盖板位于所述支撑机构上方，所述第一驱动机构用于驱动所述盖板相对所述热板升降，所述包围机构被配置为当所述支撑机构下降时，所述包围机构的底边与所述支撑机构的支撑面齐平。采用所述基板烘烤装置，可以避免目标基板四周边缘翘起的问题，有利于提高墨水材料在目标基板的成膜均匀性，有利于有机发光二极管制作中的烘烤工艺稳定性，最终能够确保有机发光二极管效率。

技术领域

本申请涉及有机发光领域，特别是涉及有机发光二极管的基板烘烤装置及有机发光二极管烘烤设备。

背景技术

传统有机发光二极管采用喷墨打印工艺，玻璃基板经过清洗、烘干及其它前处理工序后，将功能层墨水打印在玻璃基板上，之后进行减压干燥工艺，之后再进行烘烤工艺，目的是进行一步去除墨水中溶剂，对功能材料固态形貌进行修饰，然后再进行蒸镀及封装等工艺。

因此，在有机发光二极管效率的影响因素中，各功能层材料的成膜均匀性是很重要的影响点。按照有机发光二极管制作工艺中对墨水材料成膜的均匀性的影响，主要体现为三个工艺步骤：一是喷墨打印工艺，其墨滴体积，滴落角度控制的精确性对像素坑内墨水材料的成膜的均匀性有重要影响；二是减压干燥工艺，在墨水中的溶剂成分挥发速率以及腔体内的气压控制等对墨水材料成膜的均匀性也有重要影响。三是烘烤工艺，针对玻璃基板加热的均匀性对墨水材料的均匀成膜有重要影响。

传统的工艺程序中，在进行烘烤工艺时，一般是使用升降Pin承接玻璃基板，然后将玻璃基板放置在热板上对玻璃基板进行加热。因为在玻璃基板升降过程中，四周的热量容易散失，玻璃基板与热板在刚接触时，中间与四周温度的差异导致玻璃基板四周容易发生翘曲。导致在烘烤工艺中，玻璃基板中心区域与玻璃基板四周区域的加热温度均匀性不好，影响成膜均匀性。

实用新型内容

基于此，有必要提供一种有机发光二极管的基板烘烤装置及有机发光二极管烘烤设备。

一种有机发光二极管的基板烘烤装置，包括热板、支撑机构及升降机构，所述支撑机构设置在所述热板的上方，所述支撑机构具有用于支撑目标基板的支撑面，所述升降机构连接所述支撑机构且用于控制所述支撑机构相对所述热板升降，所述基板烘烤装置还包括盖板、第一驱动机构和包围机构，所述盖板位于所述支撑机构上方，所述第一驱动机构用于驱动所述盖板相对所述热板升降，所述包围机构被配置为当所述支撑机构下降时，所述包围机构的底边与所述支撑机构的支撑面齐平。

上述基板烘烤装置，可以避免目标基板四周边缘翘起的问题，有利于提高墨水材料在目标基板的成膜均匀性，有利于有机发光二极管制作中的烘烤工艺稳定性，最终能够确保有机发光二极管效率。

在其中一些实施例中，所述包围机构为设置在所述盖板四周的板体。

在其中一些实施例中，所述盖板为矩形，所述包围机构为设置在所述盖板周边的至少一对板体。

在其中一些实施例中，所述包围机构固定安装在所述盖板上。

在其中一些实施例中，所述基板烘烤装置还包括第二驱动机构，所述盖板设置有供所述包围机构通过的通道，所述包围机构与所述第二驱动机构连接，所述第二驱动机构用于驱动所述包围机构相对所述热板升降。

在其中一些实施例中，所述热板设有与所述包围机构相匹配的凹槽，且在所述包围机构被配置为抵接所述热板的位置时，所述包围机构抵接所述凹槽。

一种有机发光二极管烘烤设备，所述烘烤设备包括基板烘烤装置，监测装置和控制装置；