[实用新型]掩膜基板及具有它的掩膜板有效

专利信息
申请号: 201920426839.X 申请日: 2019-03-29
公开(公告)号: CN209873079U 公开(公告)日: 2019-12-31
发明(设计)人: 唐军 申请(专利权)人: 唐军
主分类号: C23C14/04 分类号: C23C14/04;C23C14/12;C23C14/24
代理公司: 44228 广州市南锋专利事务所有限公司 代理人: 郑学伟;叶利军
地址: 518000 广东省深圳市坪山区碧岭*** 国省代码: 广东;44
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 掩膜板 蒸镀面 掩膜基板 本实用新型 粗化处理 单次使用 基板本体 有机材料 粗糙度 粗糙面 蒸发源 蒸镀 材料成本 生产效率 使用寿命 玻璃面 洁净度 掉落 粗糙 清洗 玻璃 贯穿
【权利要求书】:

1.一种掩膜基板,其特征在于,包括:

基板本体,所述基板本体具有蒸镀面、与所述蒸镀面相背的玻璃面及自所述蒸镀面贯穿至所述玻璃面的多个蒸镀孔;

所述蒸镀面被构造成经粗化处理后具有预定粗糙度的粗糙面。

2.根据权利要求1所述的掩膜基板,其特征在于,所述粗糙面为经喷砂工艺处理形成的喷砂表面。

3.根据权利要求1所述的掩膜基板,其特征在于,所述粗糙面为经蚀刻工艺处理形成的蚀刻表面。

4.根据权利要求1所述的掩膜基板,其特征在于,所述玻璃面为光滑面。

5.根据权利要求1所述的掩膜基板,其特征在于,所述粗糙面上形成阵列布置的颗粒结构。

6.根据权利要求1所述的掩膜基板,其特征在于,所述粗糙面上形成沿预定方向延伸的锯齿结构。

7.根据权利要求1所述的掩膜基板,其特征在于,所述蒸镀面包括有效蒸镀区及位于所述有效蒸镀区外侧且用于连接掩膜板框的空置区,所述有效蒸镀区形成为所述粗糙面,所述空置区形成为光滑面。

8.一种掩膜板,其特征在于,包括:

掩膜板框;

如权利要求1至7中任一项所述的掩膜基板,所述掩膜基板设在所述掩膜板框上。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于唐军,未经唐军许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201920426839.X/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top