[实用新型]一种用于光学元件的新型真空吸盘

权利要求书

1.一种用于光学元件的新型真空吸盘，其特征在于，包括：盘体、真空管和真空吸嘴，所述真空吸嘴沿所述盘体的表面分布并与所述真空管连通；所述真空吸嘴包括基体、盖体和环形箍；所述基体固定连接于所述盘体，所述基体具有多个与所述真空管连通的真空吸孔；所述盖体开设有多个用于同所述真空吸孔相匹配的真空通孔；所述盖体由所述环形箍可转动地连接于所述基体，所述盖体具有第一转动位置和第二转动位置；所述盖体位于所述第一转动位置时，所述真空通孔同所述真空吸孔连通；所述盖体位于所述第二转动位置时，所述盖体将所述真空吸孔封闭。

2.根据权利要求1所述的新型真空吸盘，其特征在于，所述环形箍包括呈半环状的第一箍体和第二箍体；所述第一箍体的端部具有第一耳部，所述第一耳部开设有螺孔；所述第二箍体的端部具有第二耳部，所述第二耳部开设有用于同所述螺孔相配合的配合通孔。

3.根据权利要求2所述的新型真空吸盘，其特征在于，所述盖体的环形外壁具有沿其周向延伸的第一环形槽，所述基体的环形外壁具有沿其周向延伸的第二环形槽；所述第一箍体和所述第二箍体二者均具有用于同所述第一环形槽相配合的第一凸棱、以及用于同所述第二环形槽相配合的第二凸棱；其中，所述第一环形槽和所述第二环形槽二者的槽腔的横截面均呈半圆状，所述第一凸棱和所述第二凸棱二者的横截面也均呈半圆状。

4.根据权利要求1所述的新型真空吸盘，其特征在于，所述盖体的靠近所述基体的一侧具有呈圆锥状的凸起部，所述凸起部同所述盖体同轴设置；所述基体开设有用于同所述凸起部相配合的凹陷部，所述凹陷部也呈圆锥状，所述凹陷部略大于所述凸起部，所述凹陷部与所述凸起部之间填充有润滑剂。

5.根据权利要求4所述的新型真空吸盘，其特征在于，所述盖体的靠近所述基体的一侧具有凹槽，所述凹槽呈圆柱状且同所述盖体同轴设置，所述凸起部位于所述凹槽的槽底；所述凹槽容置有封环，所述封环包括同心设置的第一环体和第二环体，所述第一环体和所述第二环体之间由沿径向延伸的加强筋连接；所述封环固定连接于所述凹槽的槽底并抵接于所述盖体和所述基体之间，所述第一环体套设于所述凸起部并同所述凸起部的底部相贴合；所述第一环体、所述第二环体和所述加强筋三者的厚度相同，所述封环由硬质的橡胶材料制成；所述盖体位于所述第二转动位置时，所述加强筋将所述真空吸孔封闭。

6.根据权利要求5所述的新型真空吸盘，其特征在于，所述真空吸孔和所述真空通孔均呈十字型分布，所述加强筋也呈十字型分布。

7.根据权利要求5所述的新型真空吸盘，其特征在于，所述加强筋、所述第一环体和所述第二环体三者的远离所述盖体的棱边均做圆角处理。

8.根据权利要求7所述的新型真空吸盘，其特征在于，所述第一环体和所述第二环体二者的远离所述盖体的一侧均具有隆起部，所述隆起部分别沿所述第一环体和所述第二环体的周向延伸构成环状，所述隆起部的横截面呈半圆状。

9.根据权利要求7所述的新型真空吸盘，其特征在于，所述凸起部的凸起高度大于所述封环的厚度。

10.根据权利要求1所述的新型真空吸盘，其特征在于，所述盘体具有多个同心设置的环状内腔，所述环状内腔之间由径向气孔连通，所述真空管和真空吸嘴均同所述环状内腔连通。