[实用新型]一种用于光学元件的新型真空吸盘有效
申请号: | 201920426876.0 | 申请日: | 2019-03-29 |
公开(公告)号: | CN209872101U | 公开(公告)日: | 2019-12-31 |
发明(设计)人: | 陈兴建;顾元元 | 申请(专利权)人: | 成都贝瑞光电科技股份有限公司 |
主分类号: | B66C1/02 | 分类号: | B66C1/02 |
代理公司: | 51278 成都慕川专利代理事务所(普通合伙) | 代理人: | 谢芳 |
地址: | 610041 四*** | 国省代码: | 四川;51 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 盖体 真空吸孔 转动位置 真空管 真空吸嘴 盘体 连通 真空通孔 环形箍 光电技术领域 吸盘 使用灵活性 表面分布 光学元件 新型真空 地连接 可转动 上盘 匹配 封闭 | ||
一种用于光学元件的新型真空吸盘,涉及光电技术领域。包括盘体、真空管和真空吸嘴,真空吸嘴沿盘体的表面分布并与真空管连通。真空吸嘴包括基体、盖体和环形箍。基体固定连接于盘体,基体具有多个与真空管连通的真空吸孔。盖体开设有多个用于同真空吸孔相匹配的真空通孔。盖体由环形箍可转动地连接于基体,盖体具有第一转动位置和第二转动位置。盖体位于第一转动位置时,真空通孔同真空吸孔连通。盖体位于第二转动位置时,盖体将真空吸孔封闭。其结构简单,操作方便,大大提高了上盘效率,使用成本低廉,安全可靠。同时其使用灵活性高,能够满足不同的使用需求。
技术领域
本实用新型涉及光电技术领域,具体而言,涉及一种用于光学元件的新型真空吸盘。
背景技术
现有上盘方法多为使用蜡作为粘接剂进行上盘,上盘工序复杂,耗时长,速度慢,还受到气候影响,成本较高,且效率较低。由于要使用电炉以及电热板等高功率的电器,还存在一定的危险性。
有鉴于此,特提出本申请。
实用新型内容
本实用新型的目的在于提供一种用于光学元件的新型真空吸盘,其结构简单,操作方便,大大提高了上盘效率,使用成本低廉,安全可靠。同时其使用灵活性高,能够满足不同的使用需求。
本实用新型的实施例是这样实现的:
一种用于光学元件的新型真空吸盘,其包括:盘体、真空管和真空吸嘴,真空吸嘴沿盘体的表面分布并与真空管连通。真空吸嘴包括基体、盖体和环形箍。基体固定连接于盘体,基体具有多个与真空管连通的真空吸孔。盖体开设有多个用于同真空吸孔相匹配的真空通孔。盖体由环形箍可转动地连接于基体,盖体具有第一转动位置和第二转动位置。盖体位于第一转动位置时,真空通孔同真空吸孔连通。盖体位于第二转动位置时,盖体将真空吸孔封闭。
进一步地,环形箍包括呈半环状的第一箍体和第二箍体。第一箍体的端部具有第一耳部,第一耳部开设有螺孔。第二箍体的端部具有第二耳部,第二耳部开设有用于同螺孔相配合的配合通孔。
进一步地,盖体的环形外壁具有沿其周向延伸的第一环形槽,基体的环形外壁具有沿其周向延伸的第二环形槽。第一箍体和第二箍体二者均具有用于同第一环形槽相配合的第一凸棱、以及用于同第二环形槽相配合的第二凸棱。其中,第一环形槽和第二环形槽二者的槽腔的横截面均呈半圆状,第一凸棱和第二凸棱二者的横截面也均呈半圆状。
进一步地,盖体的靠近基体的一侧具有呈圆锥状的凸起部,凸起部同盖体同轴设置。基体开设有用于同凸起部相配合的凹陷部,凹陷部也呈圆锥状,凹陷部略大于凸起部,凹陷部与凸起部之间填充有润滑剂。
进一步地,盖体的靠近基体的一侧具有凹槽,凹槽呈圆柱状且同盖体同轴设置,凸起部位于凹槽的槽底。凹槽容置有封环,封环包括同心设置的第一环体和第二环体,第一环体和第二环体之间由沿径向延伸的加强筋连接。封环固定连接于凹槽的槽底并抵接于盖体和基体之间,第一环体套设于凸起部并同凸起部的底部相贴合。第一环体、第二环体和加强筋三者的厚度相同,封环由硬质的橡胶材料制成。盖体位于第二转动位置时,加强筋将真空吸孔封闭。
进一步地,真空吸孔和真空通孔均呈十字型分布,加强筋也呈十字型分布。
进一步地,加强筋、第一环体和第二环体三者的远离盖体的棱边均做圆角处理。
进一步地,第一环体和第二环体二者的远离盖体的一侧均具有隆起部,隆起部分别沿第一环体和第二环体的周向延伸构成环状,隆起部的横截面呈半圆状。
进一步地,凸起部的凸起高度大于封环的厚度。
进一步地,盘体具有多个同心设置的环状内腔,环状内腔之间由径向气孔连通,真空管和真空吸嘴均同环状内腔连通。
本实用新型实施例的有益效果是:
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